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1. (WO2018179640) 感光性転写材料、及び、回路配線の製造方法
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国際公開番号: WO/2018/179640 国際出願番号: PCT/JP2017/046478
国際公開日: 04.10.2018 国際出願日: 25.12.2017
IPC:
G03F 7/11 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/039 (2006.01) ,H05K 3/06 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
09
構造の細部,例.支持体,補助層,に特徴のあるもの
11
被覆層又は中間層,例.下塗層をもつもの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
039
光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト
H 電気
05
他に分類されない電気技術
K
印刷回路;電気装置の箱体または構造的細部,電気部品の組立体の製造
3
印刷回路を製造するための装置または方法
02
導電性物質が絶縁支持部材の表面に施されその後電流の伝導や遮へいのために使わない部分が表面から取り除かれるもの
06
導電性物質が化学的にまたは電気分解により取り除かれるもの,例.ホトエッチング法
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
藤本 進二 FUJIMOTO, Shinji; JP
佐藤 守正 SATO, Morimasa; JP
片山 晃男 KATAYAMA, Akio; JP
漢那 慎一 KANNA, Shinichi; JP
篠田 克己 SHINODA, Katsumi; JP
代理人:
特許業務法人太陽国際特許事務所 TAIYO, NAKAJIMA & KATO; 東京都新宿区新宿4丁目3番17号 3-17, Shinjuku 4-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022, JP
優先権情報:
2017-06804230.03.2017JP
2017-20857127.10.2017JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE TRANSFERRING MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING CIRCUIT WIRING
(FR) MATÉRIAU DE TRANSFERT PHOTOSENSIBLE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CÂBLAGE DE CIRCUIT
(JA) 感光性転写材料、及び、回路配線の製造方法
要約:
(EN) This photosensitive transferring material comprises a temporary support, an intermediate layer, and a photosensitive resin composition layer in this order. The photosensitive resin composition layer includes: a polymer including a constituent unit including an acid group protected by an acid-degradable group; and a photoacid generator. The intermediate layer is water-soluble or alkali-soluble, and includes a resin C including a constituent unit including a phenolic hydroxyl group or an alcoholic hydroxyl group that is not directly bonded to the main chain. Also provided is a method for producing a circuit wiring using said photosensitive transferring material.
(FR) L'invention concerne un matériau de transfert photosensible qui comprend un support temporaire, une couche intermédiaire et une couche de composition de résine photosensible, dans cet ordre. La couche de composition de résine photosensible comprend : un polymère comprenant une unité constitutive comprenant un groupe acide protégé par un groupe dégradable par acide ; et un générateur de photoacide. La couche intermédiaire est hydrosoluble ou soluble dans les alcalis, et comprend une résine C comprenant une unité constitutive comprenant un groupe hydroxyle phénolique ou un groupe hydroxyle alcoolique qui n'est pas directement lié à la chaîne principale. L'invention concerne également un procédé de production d'un câblage de circuit à l'aide dudit matériau de transfert photosensible.
(JA) 感光性転写材料は、仮支持体と、中間層と、感光性樹脂組成物層とをこの順で有し、上記感光性樹脂組成物層が、酸分解性基で保護された酸基を有する構成単位を有する重合体と、光酸発生剤とを含有し、上記中間層が、水溶性又はアルカリ可溶性であり、かつフェノール性水酸基又は主鎖に直結していないアルコール性水酸基を有する構成単位を含む樹脂Cを含有する。また、上記感光性転写材料を用いた回路配線の製造方法が提供される。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)