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1. (WO2018179495) 水質調整水製造装置
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国際公開番号: WO/2018/179495 国際出願番号: PCT/JP2017/032800
国際公開日: 04.10.2018 国際出願日: 12.09.2017
IPC:
C02F 1/68 (2006.01) ,B01D 19/00 (2006.01) ,C02F 1/20 (2006.01) ,H01L 21/304 (2006.01)
C 化学;冶金
02
水,廃水,下水または汚泥の処理
F
水,廃水,下水または汚泥の処理
1
水,廃水または下水の処理
68
飲料水の改良のための特定物質,例.微量成分,の添加によるもの
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
19
液体の脱気
C 化学;冶金
02
水,廃水,下水または汚泥の処理
F
水,廃水,下水または汚泥の処理
1
水,廃水または下水の処理
20
脱気によるもの,すなわち溶存ガスの放出
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30
21/20~21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
302
表面の物理的性質または形状を変換するため,例.エッチング,ポリシング,切断
304
機械的処理,例.研摩,ポリシング,切断
出願人:
栗田工業株式会社 KURITA WATER INDUSTRIES LTD. [JP/JP]; 東京都中野区中野四丁目10番1号 10-1, Nakano 4-chome, Nakano-ku, Tokyo 1640001, JP
発明者:
正岡 融 MASAOKA, Tooru; JP
代理人:
重野 剛 SHIGENO, Tsuyoshi; JP
重野 隆之 SHIGENO, Takayuki; JP
優先権情報:
2017-06809230.03.2017JP
発明の名称: (EN) APPARATUS FOR PRODUCING TREATED WATER
(FR) APPAREIL POUR PRODUIRE DE L'EAU TRAITÉE
(JA) 水質調整水製造装置
要約:
(EN) An apparatus for producing treated water by adding a pH-adjusting agent and/or an ORP-adjusting agent to ultrapure water, provided with: a chemical solution tank 1 for storing a chemical solution comprising a pH-adjusting agent and/or an ORP-adjusting agent; a chemical injection piping 3 for chemical injection of the chemical solution in the chemical solution tank 1 into the ultrapure water; and a deaeration means 6 for deaerating the chemical solution injected into the ultrapure water. When producing treated water, which is useful as rinsing water, etc. for semiconductor wafers, by adding a pH-adjusting agent and/or an ORP-adjusting agent to ultrapure water, the present invention solves the problem of DO being introduced from the chemical solution and the problem of faulty chemical injection and faulty flow meter measurement due to foaming of the chemical solution, making it possible to produce treated water of low DO concentration and high water quality in a stable manner.
(FR) L'invention concerne un appareil pour produire de l'eau traitée par ajout d'un agent régulateur de pH et/ou d'un agent régulateur du potentiel d'oxydo-réduction (P.O.R) à de l'eau ultra-pure, comprenant : un réservoir de solution chimique 1 pour stocker une solution chimique comprenant un agent régulateur de pH et/ou un agent régulateur du P.O.R ; une tuyauterie d'injection chimique 3 pour l'injection chimique de la solution chimique, présente dans le réservoir de solution chimique 1, dans l'eau ultrapure ; et un moyen de désaération 6 pour désaérer la solution chimique injectée dans l'eau ultrapure. Lors de la production d'eau traitée, qui est utile comme eau de rinçage, etc. pour des tranches de semi-conducteur, en ajoutant un agent régulateur de pH et/ou un agent régulateur du P.O.R à de l'eau ultra-pure, la présente invention résout le problème lié à l'introduction d'oxygène dissous (O.D) à partir de la solution chimique et le problème lié à une injection chimique défectueuse et à une mesure de débitmètre défectueuse en raison du moussage de la solution chimique, ce qui permet de produire de l'eau traitée ayant une faible concentration d'O.D et une haute qualité d'eau d'une manière stable.
(JA) 超純水にpH調整剤及び/又は酸化還元電位調整剤を添加して水質調整水を製造する装置であって、pH調整剤及び/又は酸化還元電位調整剤を含む薬液を貯留する薬液タンク1と、該薬液タンク1内の薬液を超純水に薬注する薬注配管3と、該超純水に薬注される薬液を脱気処理する脱気手段6とを備える水質調整水製造装置。超純水にpH調整剤及び/又は酸化還元電位調整剤を添加して、半導体ウェハの洗浄水等として有用な水質調整水を製造するに当たり、薬液からのDOの混入、薬液の発泡による薬注不良や流量計の計測不良といった問題を解決して、DO濃度の低い高水質の水質調整水を安定的に製造することができる。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)