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1. (WO2018179379) 反射抑制装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/179379 国際出願番号: PCT/JP2017/013725
国際公開日: 04.10.2018 国際出願日: 31.03.2017
IPC:
G01V 3/12 (2006.01)
G 物理学
01
測定;試験
V
地球物理;重力測定;塊状物または対象物の検出;タグ
3
電気的または磁気的探鉱または検出;地球の磁場特性,例.偏角または偏差の測定
12
電磁波で働くもの
出願人: NEC CORPORATION[JP/JP]; 7-1, Shiba 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1088001, JP
発明者: TANOMURA, Masahiro; JP
代理人: BRIGHTAS IP ATTORNEYS; 2-5-10, Sonezaki, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300057, JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) REFLECTION SUPPRESSING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE SUPPRESSION DE RÉFLEXION
(JA) 反射抑制装置
要約:
(EN) A reflection suppressing device 100 is a device for suppressing reflection of electromagnetic waves between two media. The reflection suppressing device 100 is provided with: a first dielectric layer 10; a second dielectric layer 20; and an intermediate dielectric layer 30 positioned between the first dielectric layer 10 and the second dielectric layer 20. Each of the first dielectric layer 10 and the second dielectric layer 20 has a metal layer 11 or 21, and the intermediate dielectric layer 30 is formed such that the specific dielectric constant thereof is higher than the specific dielectric constant of the first dielectric layer 10 and/or the specific dielectric constant of the second dielectric layer 20.
(FR) La présente invention concerne un dispositif de suppression de réflexion (100) qui est un dispositif permettant de supprimer la réflexion d'ondes électromagnétiques entre deux milieux. Le dispositif de suppression de réflexion (100) comprend : une première couche diélectrique (10) ; une seconde couche diélectrique (20) ; et une couche diélectrique intermédiaire (30) positionnée entre la première couche diélectrique (10) et la seconde couche diélectrique (20). Chaque couche parmi la première couche diélectrique (10) et la seconde couche diélectrique (20) comporte une couche métallique (11) ou (21), et la couche diélectrique intermédiaire (30) est formée de sorte que sa constante diélectrique spécifique est supérieure à la constante diélectrique spécifique de la première couche diélectrique (10) et/ou à la constante diélectrique spécifique de la seconde couche diélectrique (20).
(JA) 反射抑制装置100は、2つの媒質間での電磁波の反射を抑制するための装置である。反射抑制装置100は、第1の誘電体層10と、第2の誘電体層20と、第1の誘電体層10及び第2の誘電体層20の間に位置する中間誘電体層30とを備える。第1の誘電体層10及び第2の誘電体層20は、それぞれ金属層11または21を有し、中間誘電体層30は、その比誘電率が、第1の誘電体層10の比誘電率及び第2の誘電体層20の比誘電率の少なくとも一方よりも大きくなるように、形成されている。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)