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1. (WO2018179295) 露光装置及び方法、並びにデバイス製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/179295 国際出願番号: PCT/JP2017/013477
国際公開日: 04.10.2018 国際出願日: 30.03.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,H01L 21/67 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
67
製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置
出願人: NIKON CORPORATION[JP/JP]; 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
発明者: SATO Shinji; JP
FUNATSU Takayuki; JP
ICHINOSE Go; JP
代理人: OMORI Satoshi; JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) EXPOSURE APPARATUS AND METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
(JA) 露光装置及び方法、並びにデバイス製造方法
要約:
(EN) This exposure apparatus is for exposing a wafer, held by a shuttle, to an electron beam, and is provided with: a movable stage to which the shuttle holding the wafer is detachably attached; an electrostatic attracting device that electrostatically attracts the wafer to the shuttle; and a gas supply device that supplies a gas to a space between the shuttle and the wafer during at least a portion of a period when the wafer is attracted by the electrostatic attracting device. The present invention can suppress damage to a substrate and generation of out-of-place objects from the substrate caused by the attraction when the substrate is attracted and held while the substrate is conveyed or exposed.
(FR) La présente invention concerne un appareil d'exposition servant à exposer une tranche, maintenue par une navette, à un faisceau d'électrons, et comprenant: un étage mobile auquel la navette maintenant la tranche est fixée de façon détachable; un dispositif d'attraction électrostatique qui attire par voie électrostatique la tranche vers la navette; et un dispositif d'alimentation en gaz qui introduit un gaz dans un espace entre la navette et la tranche pendant au moins une partie d'une période quand la tranche est attirée par le dispositif d'attraction électrostatique. La présente invention peut supprimer l'endommagement d'un substrat et la génération d'objets hors place à partir du substrat provoqués par l'attraction quand le substrat est attiré et maintenu pendant que le substrat est transporté ou exposé.
(JA) シャトルに保持されたウエハを電子ビームで露光する露光装置であって、ウエハを保持するシャトルが着脱可能に取り付けられる可動ステージと、シャトルにウエハを静電吸着する静電吸着装置と、静電吸着装置によってウエハを吸着している期間の少なくとも一部で、シャトルとウエハとの間の空間に気体を供給する気体供給装置とを備える。基板の搬送中又は露光中において基板を吸着保持するときの吸着による基板の損傷及び基板からの異物の発生を抑制できる。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)