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1. (WO2018179094) レーザシステム、及びEUV光生成システム
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2018/179094 国際出願番号: PCT/JP2017/012676
国際公開日: 04.10.2018 国際出願日: 28.03.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
出願人:
ギガフォトン株式会社 GIGAPHOTON INC. [JP/JP]; 栃木県小山市大字横倉新田400番地 400, Oaza Yokokurashinden, Oyama-shi, Tochigi 3238558, JP
発明者:
植野 能史 UENO, Yoshifumi; JP
高島 悠太 TAKASHIMA, Yuta; JP
代理人:
保坂 延寿 HOSAKA, Nobuhisa; 東京都千代田区神田佐久間町3-22 神田SKビル4階 新井・橋本・保坂国際特許事務所 ARAI, HASHIMOTO, HOSAKA & ASSOCIATES, KANDA SK BLDG. 4F, 3-22, KANDA SAKUMA-CHO, CHIYODA-KU, TOKYO 1010025, JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) LASER SYSTEM AND EUV LIGHT GENERATION SYSTEM
(FR) SYSTÈME LASER ET SYSTÈME DE GÉNÉRATION DE LUMIÈRE EUV
(JA) レーザシステム、及びEUV光生成システム
要約:
(EN) The laser system according to the present disclosure is provided with: a laser device that outputs laser light; a transmission optical system that is disposed in a path between the laser device and a target supplied to the inside of an EUV chamber in which EUV light is to be generated; a reflection optical system, which is disposed in a path between the transmission optical system and the target, and which reflects toward the target the laser light transmitted from the transmission optical system; a first sensor, which is provided in a path between the transmission optical system and the reflection optical system, and which detects laser light travelling toward the reflection optical system from the laser device; a second sensor, which is provided in a path extending from the reflection optical system to the inside of the laser device, and which detects return light of the laser light, said return light travelling backward to the laser device by being reflected by the reflection optical system; and a control unit that determines that the reflection optical system is damaged in the cases where a laser light abnormality is not detected by the first sensor, and the quantity of the return light detected by the second sensor exceeds a predetermined light quantity value.
(FR) La présente invention a trait à un système laser qui comprend : un dispositif laser émettant une lumière laser; un système optique de transmission situé sur un chemin entre le dispositif laser et une cible à l'intérieur d'une chambre EUV dans laquelle de la lumière EUV doit être générée; un système optique de réflexion disposé sur un chemin entre le système optique de transmission et la cible, et réfléchissant vers cette cible la lumière laser transmise à partir dudit système optique de transmission; un premier capteur placé sur un chemin entre le système optique de transmission et le système optique de réflexion, et détectant la lumière laser qui se propage vers ce système optique de réflexion à partir du dispositif laser; un second capteur placé sur un chemin qui s'étend à partir du système optique de réflexion jusqu'à l'intérieur du dispositif laser, et détectant une lumière de retour de la lumière laser, ladite lumière de retour se propageant en arrière vers le dispositif laser en étant réfléchie par le système optique de réflexion; et une unité de commande déterminant que le système optique de réflexion est endommagé dans les cas où une anomalie de lumière laser n'est pas détectée par le premier capteur, et où la quantité de lumière de retour détectée par le second capteur dépasse une valeur de quantité de lumière prédéfinie.
(JA) 本開示によるレーザシステムは、レーザ光を出射するレーザ装置と、レーザ装置とEUV光が生成されるEUVチャンバ内に供給されたターゲットとの間の経路に配置された伝送光学系と、伝送光学系とターゲットとの間の経路に配置され、伝送光学系からのレーザ光をターゲットの方向に反射する反射光学系と、伝送光学系と反射光学系との間の経路に設けられ、レーザ装置から反射光学系へと向かうレーザ光を検出する第1のセンサと、反射光学系からレーザ装置の内部に至る経路に設けられ、反射光学系により反射されレーザ装置へと逆行するレーザ光の戻り光を検出する第2のセンサと、第1のセンサによってレーザ光の異常が検出されなかった場合において、第2のセンサにより検出された戻り光の光量が所定の光量値を超えた場合に、反射光学系に損傷が有ると判定する制御部とを備える。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)