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1. (WO2018173884) プローブ構造体、及びプローブ構造体の製造方法
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国際公開番号: WO/2018/173884 国際出願番号: PCT/JP2018/009957
国際公開日: 27.09.2018 国際出願日: 14.03.2018
IPC:
G01R 1/067 (2006.01) ,B82Y 10/00 (2011.01) ,B82Y 40/00 (2011.01) ,C01B 32/158 (2017.01) ,G01R 1/06 (2006.01) ,H01L 21/66 (2006.01)
G 物理学
01
測定;試験
R
電気的変量の測定;磁気的変量の測定
1
グループG01R5/00~G01R13/00またはG01R31/00に包含される型の機器または装置の細部
02
一般的な構造の細部
06
測定用導線;測定用探針
067
測定用探針
B 処理操作;運輸
82
ナノテクノロジー
Y
ナノ構造物の特定の使用または応用;ナノ構造物の測定または分析;ナノ構造物の製造または処理
10
情報処理,情報記憶または情報伝送のためのナノテクノロジー,例.量子コンピューティングまたは単電子論理回路
B 処理操作;運輸
82
ナノテクノロジー
Y
ナノ構造物の特定の使用または応用;ナノ構造物の測定または分析;ナノ構造物の製造または処理
40
ナノ構造物の製造または処理
[IPC code unknown for C01B 32/158]
G 物理学
01
測定;試験
R
電気的変量の測定;磁気的変量の測定
1
グループG01R5/00~G01R13/00またはG01R31/00に包含される型の機器または装置の細部
02
一般的な構造の細部
06
測定用導線;測定用探針
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
66
製造または処理中の試験または測定
出願人:
日本電産リード株式会社 NIDEC-READ CORPORATION [JP/JP]; 京都府京都市右京区西京極堤外町10 10, Nishikyogokutsutsumisoto-cho, Ukyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6150854, JP
発明者:
前田 真寿 MAEDA Michihisa; JP
沼田 清 NUMATA Kiyoshi; JP
山崎 秀和 YAMASAKI Hidekazu; JP
藤野 真 FUJINO Makoto; JP
代理人:
柳野 隆生 YANAGINO Takao; JP
柳野 嘉秀 YANAGINO YOSHIHIDE; 大阪府大阪市淀川区宮原1-15-1、ノスクマードビル Noskmard Building, 1-15-1, Miyahara, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka 5320003, JP
森岡 則夫 MORIOKA Norio; JP
関口 久由 SEKIGUCHI Hisayoshi; JP
大西 裕人 OHNISHI Hiroto; JP
優先権情報:
2017-05464021.03.2017JP
発明の名称: (EN) PROBE STRUCTURE AND METHOD FOR PRODUCING PROBE STRUCTURE
(FR) STRUCTURE DE SONDE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE STRUCTURE DE SONDE
(JA) プローブ構造体、及びプローブ構造体の製造方法
要約:
(EN) This probe structure 1 is provided with: a holding plate 2 which has a first surface 21 and a second surface 22, and wherein at least the first surface 21 is insulated; a plurality of electrodes 3 which are formed on the first surface 21 of the holding plate 2 in such a manner that the plurality of electrodes 3 are separated from each other; and carbon nanotube structures 4 which are provided on the electrodes 3 in such a manner that the carbon nanotube structures 4 stand upright thereon. The holding plate 2 is provided with through holes 24 which correspond to the electrodes 3, respectively.
(FR) L'invention concerne une structure de sonde (1) comprenant : une plaque de maintien (2) présentant une première surface (21) et une seconde surface (22), et au moins la première surface (21) étant isolée ; une pluralité d'électrodes (3) formées sur la première surface (21) de la plaque de maintien (2) de telle sorte que la pluralité d'électrodes (3) sont séparées les unes des autres ; et des structures de nanotubes de carbone (4) situées sur les électrodes (3) de telle sorte que les structures de nanotubes de carbone (4) sont redressées sur ces dernières. La plaque de maintien (2) comprend des trous traversants (24) correspondant aux électrodes (3), respectivement.
(JA) プローブ構造体1は、第一面21と第二面22とを有し、少なくとも前記第一面21が絶縁された保持板2と、当該保持板2の第一面21に、互いに分離した状態で形成された複数の電極3と、当該電極3上に立設されたカーボンナノチューブ構造体4とを備え、前記保持板2には、前記各電極3と対応する貫通孔24が形成されている。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)