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1. (WO2018173566) 基板処理装置および基板処理方法

Pub. No.:    WO/2018/173566    International Application No.:    PCT/JP2018/005310
Publication Date: Fri Sep 28 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Fri Feb 16 00:59:59 CET 2018
IPC: H01L 21/304
H01L 21/677
Applicants: SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
株式会社SCREENホールディングス
Inventors: OTA, Takashi
太田 喬
TAKAHASHI, Mitsukazu
高橋 光和
HONSHO, Kazuhiro
本庄 一大
Title: 基板処理装置および基板処理方法
Abstract:
基板処理装置は、処理室内で基板の表面に処理液を供給する液処理ユニットと、乾燥室内で基板表面の処理液を乾燥させる乾燥ユニットと、前記処理室へ基板を搬入する主搬送ユニットと、前記処理室から前記乾燥室へ基板を搬送するローカル搬送ユニットと、前記ローカル搬送ユニットによって基板が搬送されている間、前記基板表面の処理液の乾燥を防ぐ乾燥防止流体を前記基板表面に供給する乾燥防止流体供給ユニットと、を含む。