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1. (WO2018173562) 洗浄装置及び基板処理装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/173562 国際出願番号: PCT/JP2018/005249
国際公開日: 27.09.2018 国際出願日: 15.02.2018
IPC:
H01L 21/304 (2006.01) ,H01L 21/677 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30
21/20~21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
302
表面の物理的性質または形状を変換するため,例.エッチング,ポリシング,切断
304
機械的処理,例.研摩,ポリシング,切断
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
67
製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置
677
移送のためのもの,例.異なるワ―クステーション間での移送
出願人: EBARA CORPORATION[JP/JP]; 11-1, Haneda Asahi-cho, Ohta-ku, Tokyo 1448510, JP
発明者: HOMBO Teruaki; JP
KUNISAWA Junji; JP
代理人: TANAI Sumio; JP
MATSUNUMA Yasushi; JP
SHIMIZU Yuichiro; JP
TAKAHASHI Hisanori; JP
優先権情報:
2017-05682023.03.2017JP
発明の名称: (EN) CLEANING DEVICE AND SUBSTRATE PROCESSING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE NETTOYAGE ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) 洗浄装置及び基板処理装置
要約:
(EN) A cleaning device comprising: a plurality of processing units including a cleaning unit for cleaning an object to be cleaned; a transport chamber disposed between the plurality of processing units; a transport robot disposed in the transport chamber in such a way as to be capable of being raised and lowered; an exhaust opening section for discharging from under the transport chamber a gas which is compressed when the transport robot is lowered; and a liquid accumulation section for allowing a liquid transported by the compressed gas to accumulate under the transport chamber.
(FR) L'invention concerne un dispositif de nettoyage comprenant : une pluralité d'unités de traitement comprenant une unité de nettoyage pour nettoyer un objet à nettoyer; une chambre de transport disposée entre la pluralité d'unités de traitement; un robot de transport disposé dans la chambre de transport de manière à pouvoir être soulevé et abaissé; une section d'ouverture d'échappement pour décharger de sous la chambre de transport un gaz qui est comprimé lorsque le robot de transport est abaissé; et une section d'accumulation de liquide pour permettre à un liquide transporté par le gaz comprimé de s'accumuler sous la chambre de transport.
(JA) 洗浄装置は、処理対象物を洗浄する洗浄ユニットを含む複数の処理ユニットと、前記複数の処理ユニットの間に設けられた搬送室と、前記搬送室の内部に、昇降可能に設けられた搬送ロボットと、前記搬送ロボットが下降した時に圧縮される気体を、前記搬送室の下部から排出する排気口部と、前記圧縮された気体に搬送される液体を、前記搬送室の下部に残留させる液体残留部と、を有する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)