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1. (WO2018173505) プラズマCVD成膜装置

Pub. No.:    WO/2018/173505    International Application No.:    PCT/JP2018/003488
Publication Date: Fri Sep 28 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Fri Feb 02 00:59:59 CET 2018
IPC: C23C 16/50
C23C 16/54
H05H 1/46
H01L 21/31
Applicants: KONICA MINOLTA, INC.
コニカミノルタ株式会社
Inventors: MOMMA Chiaki
門馬 千明
SUZUKI Issei
鈴木 一生
Title: プラズマCVD成膜装置
Abstract:
成膜レート及びバリア性が高く、パーティクルの発生量も少ないプラズマCVD成膜装置を提供する。本発明に係るプラズマCVD成膜装置(1)は、一対の成膜ロール(23)、(26)と、一対の成膜ロール(23)、(26)の間の対向空間に原料ガスを供給する供給口(11)と、一対の成膜ロール(23)、(26)と近接した位置で対向空間に向けて開口する開口部(121)及び開口部(121)から供給口(11)までを覆う壁部(122)を有する隔壁(12)と、を有し、一対の成膜ロール(23)、(26)の軸間距離をX、開口部(121)の開口寸法をY、隔壁(12)のうち、供給口(11)と近接した位置で一対の成膜ロール(23)、(26)と対向する対向壁部(123)の形成寸法をZとしたとき、一対の成膜ロール(23)、(26)と隔壁(12)が、X>Z、及び、Y≧Zを同時に満たす。