国際・国内特許データベース検索

1. (WO2018173136) 水素ガス供給装置及びその方法

Pub. No.:    WO/2018/173136    International Application No.:    PCT/JP2017/011373
Publication Date: Fri Sep 28 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Thu Mar 23 00:59:59 CET 2017
IPC: F17C 13/00
Applicants: IWATANI CORPORATION
岩谷産業株式会社
Inventors: ENDO Akiko
遠藤 暁子
FUJIKAWA Shizuichi
藤川 静一
MAKIHIRA Naohisa
牧平 尚久
Title: 水素ガス供給装置及びその方法
Abstract:
いわゆる水素ステーションにおいて、極低温の液化水素を目標の所定温度の水素ガスに直接変えて供給する。液化水素貯槽の液化水素LH2を所定温度の水素ガスGH2にしてディスペンサに供給する水素ガス供給装置において、液化水素を昇圧しながら送り出す液化水素ポンプと、送り出された液化水素から所定温度の水素ガスを生成するガス化装置を備える。ガス化装置は、ある特定圧力での沸点が水素ガスを前述の所定温度に昇温する温度である液状の冷媒Rが封入されて液相部と気相部を有する冷媒槽と、冷媒槽の中を通る昇温熱交換路と、冷媒槽内における冷媒の圧力を前述の特定圧力に調整する圧力調整手段を有する。