国際・国内特許データベース検索

1. (WO2018169016) 半導体デバイス用基板の洗浄剤組成物、半導体デバイス用基板の洗浄方法、半導体デバイス用基板の製造方法及び半導体デバイス用基板

Pub. No.:    WO/2018/169016    International Application No.:    PCT/JP2018/010323
Publication Date: Fri Sep 21 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Fri Mar 16 00:59:59 CET 2018
IPC: H01L 21/304
C11D 1/62
C11D 3/30
C11D 7/32
Applicants: MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION
三菱ケミカル株式会社
Inventors: KUSANO Tomohiro
草野 智博
HARADA Ken
原田 憲
KAWASE Yasuhiro
河瀬 康弘
Title: 半導体デバイス用基板の洗浄剤組成物、半導体デバイス用基板の洗浄方法、半導体デバイス用基板の製造方法及び半導体デバイス用基板
Abstract:
本発明は、配線及び電極のうちの少なくとも一つを有する半導体デバイス用基板の洗浄剤組成物であって、前記配線及び前記電極が、コバルト又はコバルト合金を含有し、前記洗浄剤組成物が、成分(A):特定の化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物及び成分(B):水を含有する、半導体デバイス用基板の洗浄剤組成物に関する。