(EN) A hydrophilic vapor deposition film which is able to be formed even on a substrate having high water resistance and large curvature, a substrate having a complicated shape or a substrate that is difficult to be heated to high temperatures. A hydrophilic vapor deposition film, the film thickness of which is able to be controlled precisely, and which has a stable refractive index. A hydrophilic vapor deposition film according to the present invention is characterized by containing, as constituent elements, at least phosphorus, oxygen and a metal element that is able to be trivalent or hexavalent.
(FR) L'invention concerne un film hydrophile de dépôt en phase vapeur qui peut être formé même sur un substrat ayant une résistance élevée à l'eau et une forte courbure, sur un substrat de forme complexe ou sur un substrat difficile à chauffer à des températures élevées. L'invention concerne un film hydrophile de dépôt en phase vapeur, dont l'épaisseur de film peut être réglée avec précision et qui a un indice de réfraction stable. Un film hydrophile de dépôt en phase vapeur selon la présente invention est caractérisé par le fait qu'il contient, en tant qu'éléments constitutifs, au moins du phosphore, de l'oxygène et un élément métallique qui peut être trivalent ou hexavalent.
(JA) 耐水性が高く、曲率の大きい基材、複雑な形状の基材又は高温に加熱することが困難な基材にも形成可能な親水性蒸着膜。また、精密な膜厚の制御が可能で屈折率が安定した親水性蒸着膜。 構成元素として少なくともリン、酸素、及び３価又は６価となり得る金属元素を含むことを特徴とする親水性蒸着膜。
