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1. WO2018168963 - 親水性蒸着膜及び蒸着材料

公開番号 WO/2018/168963
公開日 20.09.2018
国際出願番号 PCT/JP2018/010070
国際出願日 14.03.2018
予備審査請求日 15.01.2019
IPC
C23C 14/06 2006.1
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
06被覆材料に特徴のあるもの
C23C 14/08 2006.1
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
06被覆材料に特徴のあるもの
08酸化物
C23C 14/24 2006.1
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22被覆の方法に特徴のあるもの
24真空蒸着
CPC
A61L 27/12
AHUMAN NECESSITIES
61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
LMETHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION, OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS, OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS, OR SURGICAL ARTICLES
27Materials for ; grafts or; prostheses or for coating ; grafts or; prostheses
02Inorganic materials
12Phosphorus-containing materials, e.g. apatite
C23C 14/06
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
06characterised by the coating material
C23C 14/30
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
22characterised by the process of coating
24Vacuum evaporation
28by wave energy or particle radiation
30by electron bombardment
G02B 1/10
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
1Optical elements characterised by the material of which they are made
10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
出願人
  • キヤノンオプトロン株式会社 CANON OPTRON, INC. [JP]/[JP]
発明者
  • 渡会 孝典 WATARAI, Takanori
  • 爲國 孝洋 TAMEKUNI, Takahiro
  • 上嶌 聡一郎 UESHIMA, Soichiro
  • 沼澤 廣斗 NUMAZAWA, Hiroto
  • 堀江 幸弘 HORIE, Yukihiro
代理人
  • 丹羽 武司 NIWA, Takeshi
  • 中村 剛 NAKAMURA, Go
  • 坂井 浩一郎 SAKAI, Koichiro
  • 森廣 亮太 MORIHIRO, Ryota
  • 川口 嘉之 KAWAGUCHI, Yoshiyuki
優先権情報
2017-05044815.03.2017JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (ja)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) HYDROPHILIC VAPOR DEPOSITION FILM AND VAPOR DEPOSITION MATERIAL
(FR) FILM HYDROPHILE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR ET MATÉRIAU DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
(JA) 親水性蒸着膜及び蒸着材料
要約
(EN) A hydrophilic vapor deposition film which is able to be formed even on a substrate having high water resistance and large curvature, a substrate having a complicated shape or a substrate that is difficult to be heated to high temperatures. A hydrophilic vapor deposition film, the film thickness of which is able to be controlled precisely, and which has a stable refractive index. A hydrophilic vapor deposition film according to the present invention is characterized by containing, as constituent elements, at least phosphorus, oxygen and a metal element that is able to be trivalent or hexavalent.
(FR) L'invention concerne un film hydrophile de dépôt en phase vapeur qui peut être formé même sur un substrat ayant une résistance élevée à l'eau et une forte courbure, sur un substrat de forme complexe ou sur un substrat difficile à chauffer à des températures élevées. L'invention concerne un film hydrophile de dépôt en phase vapeur, dont l'épaisseur de film peut être réglée avec précision et qui a un indice de réfraction stable. Un film hydrophile de dépôt en phase vapeur selon la présente invention est caractérisé par le fait qu'il contient, en tant qu'éléments constitutifs, au moins du phosphore, de l'oxygène et un élément métallique qui peut être trivalent ou hexavalent.
(JA) 耐水性が高く、曲率の大きい基材、複雑な形状の基材又は高温に加熱することが困難な基材にも形成可能な親水性蒸着膜。また、精密な膜厚の制御が可能で屈折率が安定した親水性蒸着膜。 構成元素として少なくともリン、酸素、及び3価又は6価となり得る金属元素を含むことを特徴とする親水性蒸着膜。
関連特許文献
国際事務局に記録されている最新の書誌情報