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1. (WO2018168435) 感光性シロキサン樹脂組成物、硬化膜およびタッチパネル用部材
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/168435 国際出願番号: PCT/JP2018/007150
国際公開日: 20.09.2018 国際出願日: 27.02.2018
IPC:
G03F 7/004 (2006.01) ,B32B 27/00 (2006.01) ,G03F 7/027 (2006.01) ,G03F 7/075 (2006.01) ,G03F 7/40 (2006.01) ,G06F 3/041 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
27
本質的に合成樹脂からなる積層体
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
075
シリコン含有化合物
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
26
感光材料の処理;そのための装置
40
画像様除去後の処理,例.加熱
G 物理学
06
計算;計数
F
電気的デジタルデータ処理
3
計算機で処理しうる形式にデータを変換するための入力装置;処理ユニットから出力ユニットへデータを転送するための出力装置,例.インタフェース装置
01
ユーザーと計算機との相互作用のための入力装置または入力と出力が結合した装置
03
器具の位置または変位をコード信号に変換するための装置
041
変換手段よって特徴付けられたデジタイザー,例.タッチスクリーンまたはタッチパッド用のもの
出願人: TORAY INDUSTRIES, INC.[JP/JP]; 1-1, Nihonbashi-Muromachi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038666, JP
発明者: KOBAYASHI, Hideyuki; JP
SUWA, Mitsuhito; JP
IIZUKA, Eisuke; JP
優先権情報:
2017-04943615.03.2017JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE SILOXANE RESIN COMPOSITION, CURED FILM AND MEMBER FOR TOUCH PANELS
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE DE SILOXANE PHOTOSENSIBLE, FILM DURCI ET ÉLÉMENT DES PANNEAUX TACTILES
(JA) 感光性シロキサン樹脂組成物、硬化膜およびタッチパネル用部材
要約:
(EN) The present invention addresses the problem of providing a photosensitive siloxane resin composition which is able to be cured at low temperatures and has excellent storage stability and resolution, while being capable of suppressing development residue, and which enables the achievement of a cured film that exhibits high hardness, while having excellent chemical resistance and excellent adhesion to a substrate. The present invention is a photosensitive siloxane resin composition which contains (A) a polysiloxane, (B) a radical photopolymerization initiator, (C) a polyfunctional monomer and (D) an amine salt of a phosphoric acid derivative.
(FR) La présente invention aborde le problème de la fourniture d'une composition de résine de siloxane photosensible qui peut être durcie à basse température et présente une excellente stabilité de stockage et une excellente résolution, tout en étant susceptible de supprimer le résidu de développement, et qui permet d'obtenir un film durci qui présente une dureté élevée, tout en ayant une excellente résistance chimique et une excellente adhérence à un substrat. La présente invention concerne une composition de résine de siloxane photosensible qui contient (A) un polysiloxane, (B) un initiateur de photopolymérisation radicalaire, (C) un monomère polyfonctionnel et (D) un sel d'amine d'un dérivé d'acide phosphorique.
(JA) 本発明は、低温硬化が可能で、保存安定性および解像度に優れ、現像残渣を抑制することでき、硬度が高く、耐薬品性、基板密着性に優れる硬化膜を得ることのできる感光性シロキサン樹脂組成物を提供することを課題とする。本発明は、(A)ポリシロキサン、(B)光ラジカル重合開始剤、(C)多官能モノマーおよび(D)リン酸誘導体アミン塩を含有する感光性シロキサン樹脂組成物である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)