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1. (WO2018168309) 感放射線性樹脂組成物、パターン膜およびその製造方法、パターン基板、細胞培養器具、マイクロ流路デバイス、ならびに細胞塊の製造方法
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国際公開番号: WO/2018/168309 国際出願番号: PCT/JP2018/005229
国際公開日: 20.09.2018 国際出願日: 15.02.2018
IPC:
G03F 7/038 (2006.01) ,C08F 12/26 (2006.01) ,C08F 20/34 (2006.01) ,C08F 20/60 (2006.01) ,C09K 3/00 (2006.01) ,C12M 3/00 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,C08G 59/68 (2006.01)
[IPC code unknown for G03F 7/038][IPC code unknown for C08F 12/26][IPC code unknown for C08F 20/34][IPC code unknown for C08F 20/60][IPC code unknown for C09K 3][IPC code unknown for C12M 3][IPC code unknown for G03F 7/20][IPC code unknown for C08G 59/68]
出願人:
JSR株式会社 JSR CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区東新橋一丁目9番2号 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640, JP
発明者:
加藤 翔一 KATOU Shouichi; JP
須田 清 SUDA Kiyoshi; JP
宮路 正昭 MIYAJI Masaaki; JP
内田 太郎 UCHIDA Tarou; JP
杉田 光 SUGITA Hikaru; JP
三浦 拓也 MIURA Takuya; JP
一戸 大吾 ICHINOHE Daigo; JP
代理人:
特許業務法人SSINPAT SSINPAT PATENT FIRM; 東京都品川区西五反田七丁目13番6号 五反田山崎ビル6階 Gotanda Yamazaki Bldg. 6F, 13-6, Nishigotanda 7-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1410031, JP
優先権情報:
2017-04959715.03.2017JP
発明の名称: (EN) RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERNED FILM, METHOD FOR PRODUCING SAME, PATTERNED SUBSTRATE, CELL CULTURE DEVICE, MICROCHANNEL DEVICE, AND METHOD FOR PRODUCING CLUMPS OF CELLS
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONNEMENTS, FILM À MOTIFS, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CELUI-CI, SUBSTRAT À MOTIFS, DISPOSITIF DE CULTURE CELLULAIRE, DISPOSITIF À MICROCANAUX ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'AMAS DE CELLULES
(JA) 感放射線性樹脂組成物、パターン膜およびその製造方法、パターン基板、細胞培養器具、マイクロ流路デバイス、ならびに細胞塊の製造方法
要約:
(EN) [Problem] To provide a radiation sensitive resin composition that is capable of suppressing adverse effects of an acid or a base, which is produced during the formation of a pattern, on cells. [Solution] A radiation sensitive resin composition which contains (A) a polymer that has a structural unit (I) represented by formula (1) and (B) at least one radiation sensitive compound that is selected from among radiation sensitive acid generators and radiation sensitive base generators. In formula (1), R1 represents a hydrogen atom, a methyl group or a trifluoromethyl group; each of R2 and R3 independently represents an alkyl group having 1-5 carbon atoms or an aryl group; each of R4 and R5 independently represents an alkanediyl group having 1-10 carbon atoms; X represents a carboanion (a -COO- group), a sulfo anion (an -SO3- group) or a phosphate anion; and Q represents an oxygen atom, an ester bond, an amide bond, an arylene group, an alkanediyl group having 1-10 carbon atoms or a combination of these groups.
(FR) Le problème abordé par la présente invention est de fournir une composition de résine sensible aux rayonnements qui est capable de supprimer les effets néfastes d'un acide ou d'une base, qui sont produits pendant la formation d'un motif, sur des cellules. La solution selon l'invention concerne une composition de résine sensible aux rayonnements qui contient (A) un polymère qui a une unité structurelle (I) représentée par la formule (1) et (B) au moins un composé sensible aux rayonnements qui est choisi parmi des générateurs d'acide sensibles aux rayonnements et des générateurs de base sensibles aux rayonnements. Dans la formule (1), R1 représente un atome d'hydrogène, un groupe méthyle ou un groupe trifluorométhyle ; R2 et R3 représentent chacun indépendamment un groupe alkyle ayant de 1 à 5 atomes de carbone ou un groupe aryle ; R4 et R5 représentent chacun indépendamment un groupe alcanediyle ayant de 1 à 10 atomes de carbone ; X représente un groupe carboanion (un groupe -COO-), un anion sulfo (un groupe -SO3 -) ou un anion phosphate ; et Q représente un atome d'oxygène, une liaison ester, une liaison amide, un groupe arylène, un groupe alcanediyle ayant de 1 à 10 atomes de carbone ou une combinaison de ces groupes.
(JA) [課題]パターン形成時に発生する酸または塩基が細胞に悪影響を及ぼすことを抑制することのできる感放射線性樹脂組成物を提供する。 [解決手段]式(1)で表される構造単位(I)を有する重合体(A)と、感放射線性酸発生剤および感放射線性塩基発生剤から選ばれる少なくとも1種の感放射線性化合物(B)とを含有する感放射線性樹脂組成物。式(1)中、R1は、水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基であり、R2およびR3は、それぞれ独立に炭素数1~5のアルキル基またはアリール基であり、R4およびR5は、それぞれ独立に炭素数1~10のアルカンジイル基であり、Xは、カルボアニオン(-COO-基)、スルホアニオン(-SO3-基)、またはリン酸アニオンであり、Qは、酸素原子、エステル結合、アミド結合、アリーレン基、炭素数1~10のアルカンジイル基、またはこれらの基の組合せである。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
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ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)