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1. (WO2018168244) 透明光学膜の製造方法および透明多層膜の製造方法
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国際公開番号: WO/2018/168244 国際出願番号: PCT/JP2018/003484
国際公開日: 20.09.2018 国際出願日: 01.02.2018
予備審査請求日: 21.06.2018
IPC:
C23C 14/14 (2006.01) ,B32B 7/02 (2006.01) ,B32B 15/01 (2006.01) ,B32B 37/06 (2006.01) ,C23C 14/58 (2006.01) ,G02B 1/116 (2015.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
06
被覆材料に特徴のあるもの
14
金属質材料,ほう素またはけい素
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
7
層間の関係を特徴とする積層体,すなわち本質的に異なる物理的性質を有する層または層の相互連続を特徴とする積層体
02
物理的性質,例.堅さ,に関するもの
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
15
本質的に金属からなる積層体
01
すべての層がもっぱら金属質であるもの
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
37
積層の方法または装置,例.硬化結合または超音波結合によるもの
06
加熱方法に特徴のあるもの
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
58
後処理
[IPC code unknown for G02B 1/116]
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
中村 誠吾 NAKAMURA, Seigo; JP
梅田 賢一 UMEDA, Kenichi; JP
板井 雄一郎 ITAI, Yuichiro; JP
園田 慎一郎 SONODA, Shinichiro; JP
代理人:
特許業務法人太陽国際特許事務所 TAIYO, NAKAJIMA & KATO; 東京都新宿区新宿4丁目3番17号 3-17, Shinjuku 4-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022, JP
優先権情報:
2017-05297017.03.2017JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR PRODUCING TRANSPARENT OPTICAL FILM AND METHOD FOR PRODUCING TRANSPARENT MULTILAYER FILM
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN FILM OPTIQUE TRANSPARENT ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN FILM MULTICOUCHE TRANSPARENT
(JA) 透明光学膜の製造方法および透明多層膜の製造方法
要約:
(EN) Provided are: a method for producing a transparent optical film, by which a transparent optical film that comprises an extremely thin transparent silver alloy layer is efficiently produced; and a method for producing a transparent multilayer film which uses this method for producing a transparent optical film. This method for producing a transparent optical film comprises: a film formation step wherein at least a silver layer and a high standard electrode potential metal layer are formed to be laminated on a substrate; and an alloying step wherein a silver alloy layer is formed by diffusing the high standard electrode potential metal into the silver layer by performing a heat treatment at a temperature of from 50°C to 400°C (inclusive). The film formation step comprises: a silver deposition step wherein a silver layer having a thickness of 6 nm or less is formed by vacuum vapor deposition; and a high standard electrode potential metal deposition step wherein a high standard electrode potential metal layer, which is composed of a high standard electrode potential metal that has a higher standard electrode potential than silver, is formed by vacuum vapor deposition.
(FR) L'invention concerne : un procédé de production d'un film optique transparent, par lequel un film optique transparent qui comprend une couche d'alliage d'argent transparent extrêmement mince est efficacement produit ; et un procédé de production d'un film multicouche transparent qui utilise ce procédé pour produire un film optique transparent. Ce procédé de production d'un film optique transparent comprend : une étape de formation de film dans laquelle au moins une couche d'argent et une couche de métal à potentiel d'électrode standard élevé sont formées pour être stratifiées sur un substrat ; et une étape d'alliage dans laquelle une couche d'alliage d'argent est formée par diffusion du métal à potentiel d'électrode standard élevé dans la couche d'argent par réalisation d'un traitement thermique à une température de 50 °C à 400 °C (inclus). L'étape de formation de film comprend : une étape de dépôt d'argent dans laquelle une couche d'argent ayant une épaisseur de 6 nm ou moins est formée par dépôt en phase vapeur sous vide ; et une étape de dépôt de métal à potentiel d'électrode standard élevé dans laquelle une couche de métal à potentiel d'électrode standard élevé, qui est composée d'un métal à potentiel d'électrode standard élevé qui a un potentiel d'électrode standard supérieur à l'argent, est formée par dépôt en phase vapeur sous vide.
(JA) 透明かつ極薄膜の銀合金層を含む透明光学膜を効率よく製造する透明光学膜の製造方法および透明光学膜の製造方法を用いた透明多層膜の製造方法を提供する。 厚みが6nm以下の銀層を真空蒸着により成膜する銀蒸着工程と、銀よりも標準電極電位が大きい高標準電極電位金属からなる高標準電極電位金属層を真空蒸着により成膜する高標準電極電位金属蒸着工程とを含む、基材上に少なくとも銀層と高標準電極電位金属層とを積層成膜する成膜工程と、50℃以上400℃以下の温度で加熱処理を行うことにより、銀層中に高標準電極電位金属を拡散させて銀合金層を形成する合金化工程とを有する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)