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1. (WO2018168221) 感放射線性組成物及びパターン形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/168221 国際出願番号: PCT/JP2018/002597
国際公開日: 20.09.2018 国際出願日: 26.01.2018
IPC:
G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/038 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
038
不溶性又は特異的に親水性になる高分子化合物
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
出願人: JSR CORPORATION[JP/JP]; 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640, JP
発明者: NAKAGAWA Hisashi; JP
MINEGISHI Shinya; JP
SHIRATANI Motohiro; JP
代理人: AMANO Kazunori; JP
優先権情報:
2017-04790913.03.2017JP
発明の名称: (EN) RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD
(FR) COMPOSITION SENSIBLE AU RAYONNEMENT ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF
(JA) 感放射線性組成物及びパターン形成方法
要約:
(EN) The purpose of the present invention is to provide: a radiation sensitive composition which has excellent coating properties and storage stability; and a pattern forming method which uses this radiation sensitive composition. The present invention is a radiation sensitive composition which contains a solvent and a compound that has a metal-oxygen covalent bond, and wherein: the metal is a metal element of the fourth to seventh row in group 3 to group 15 of the periodic table; the solvent contains a first solvent that has a viscosity at 20°C of 10 mPa·s or less and a vapor pressure at 20°C of 5 kPa or less, and a second solvent that is different from the first solvent and has a van der Waals volume of 150 Å3 or less; and the second solvent is water, a monovalent alcohol represented by R1-OH, R2-COOH or a combination of these solvents, wherein R1 is a monovalent organic group having 1 to 4 carbon atoms (inclusive) and R2 is a monovalent organic group having 1 to 30 carbon atoms (inclusive). It is preferable that the content of the first solvent in the whole solvent is from 50% by mass to 90% by mass (inclusive).
(FR) La présente invention a pour objet : une composition sensible au rayonnement qui possède d'excellentes propriétés de revêtement et stabilité au stockage ; et un procédé de formation de motif qui utilise cette composition sensible au rayonnement. La présente invention concerne une composition sensible au rayonnement qui contient un solvant et un composé qui a une liaison covalente métal-oxygène. Le métal est un élément métallique de la quatrième à la septième ligne du groupe 3 au groupe 15 du tableau périodique. Le solvant contient : un premier solvant qui a une viscosité à 20 °C inférieure ou égale à 10 mPa·s et une pression de vapeur à 20 °C inférieure ou égale à 5 kPa ; et un second solvant qui est différent du premier et qui a un volume de van der Waals inférieur ou égal à 150 Å3. Le second solvant est de l'eau, un alcool monovalent représenté par R1-OH, R2-COOH ou une combinaison de ces solvants, où R1 est un groupe organique monovalent contenant de 1 à 4 atomes de carbone (limites comprises) et R2 est un groupe organique monovalent contenant de 1 à 30 atomes de carbone (limites comprises). Il est préférable que la teneur en premier solvant par rapport à la totalité du solvant soit comprise entre 50 % en masse et 90 % en masse (limites comprises).
(JA) 感放射線性組成物の塗布性及び保存安定性に優れる感放射線性組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供を目的とする。本発明は、金属-酸素共有結合を有する化合物と、溶媒とを含有し、上記金属が、周期表第3族~第15族の第4周期~第7周期のいずれかに属する元素の金属であり、上記溶媒が、20℃における粘度が10mPa・s以下であり、20℃における蒸気圧が5kPa以下である第1溶媒と、ファンデルワールス体積が150Å以下であり、上記第1溶媒とは異なる第2溶媒とを含み、上記第2溶媒が、水、R-OHで表される1価のアルコール類、R-COOH又はこれらの組み合わせであり、Rが炭素数1以上4以下の1価の有機基であり、Rが炭素数1以上30以下の1価の有機基である感放射線性組成物である。上記第1溶媒の全溶媒中の含有量としては、50質量%以上90質量%以下が好ましい。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)