WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
オプション
検索言語
語幹処理適用
並び替え:
表示件数
このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2018167924) 荷電粒子ビーム光学系、露光装置、露光方法、及び、デバイス製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/167924 国際出願番号: PCT/JP2017/010742
国際公開日: 20.09.2018 国際出願日: 16.03.2017
IPC:
H01L 21/027 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
出願人: NIKON CORPORATION[JP/JP]; 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
発明者: YAHIRO, Takehisa; JP
代理人: EGAMI, Tatsuo; JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) CHARGED PARTICLE BEAM OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) SYSTÈME OPTIQUE À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES, APPAREIL D'EXPOSITION, PROCÉDÉ D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
(JA) 荷電粒子ビーム光学系、露光装置、露光方法、及び、デバイス製造方法
要約:
(EN) A charged particle beam optical system 1 has a plurality of irradiation optical systems 12 capable of irradiating an object W with charged particle beams EB. The irradiation optical systems include a first irradiation optical system 12-1, and a second irradiation optical system 12-2 that generates a second magnetic field having characteristics that are different from those of a first magnetic field generated by the first irradiation optical system.
(FR) L'invention concerne un système optique à faisceau de particules chargées (1) comprenant une pluralité de systèmes optiques d'irradiation (12) aptes à irradier un objet (W) avec des faisceaux de particules chargées (EB). Les systèmes optiques d'irradiation comprennent un premier système optique d'irradiation (12-1), et un second système optique d'irradiation (12-2) qui génère un second champ magnétique ayant des caractéristiques différentes de celles d'un premier champ magnétique généré par le premier système optique d'irradiation.
(JA) 荷電粒子ビームEBを物体Wに照射可能な照射光学系12を複数有する荷電粒子ビーム光学系1であって、複数の照射光学系は、第1照射光学系12-1と、第1照射光学系が発生する第1磁場の特性とは異なる特性を有する第2磁場を発生させる第2照射光学系12-2とを含む。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)