国際・国内特許データベース検索

1. (WO2018167895) スパッタリング装置

Pub. No.:    WO/2018/167895    International Application No.:    PCT/JP2017/010522
Publication Date: Fri Sep 21 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Thu Mar 16 00:59:59 CET 2017
IPC: C23C 14/34
Applicants: CANON ANELVA CORPORATION
キヤノンアネルバ株式会社
Inventors: SEKIYA, Kazunari
関谷 一成
TANABE, Masaharu
田名部 正治
INOUE, Tadashi
井上 忠
SASAMOTO, Hiroshi
笹本 浩
SATO, Tatsunori
佐藤 辰憲
TSUCHIYA, Nobuaki
土屋 信昭
Title: スパッタリング装置
Abstract:
スパッタリング装置は、基板に絶縁膜を形成するように構成され、真空容器と、前記真空容器の中に配置され、絶縁物ターゲットが取り付けられる電極と、前記真空容器の中において前記基板を保持する基板ホルダと、前記電極に高周波電圧を供給する高周波電源と、前記電極とグランドとを接続する低域通過フィルタとを備える。