このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2018166444) PHOTOETCHING APPARATUS AND METHOD
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/166444 国際出願番号: PCT/CN2018/078829
国際公開日: 20.09.2018 国際出願日: 13.03.2018
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 9/00 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
9
原稿,マスク,フレーム,写真シート,表面構造または模様が作成された表面,の位置決めまたは位置合わせ,例.自動的なもの
出願人:
上海微电子装备(集团)股份有限公司 SHANGHAI MICRO ELECTRONICS EQUIPMENT(GROUP) CO., LTD. [CN/CN]; 中国上海市 张江高科技园区张东路1525号 1525 Zhangdong Road, Zhangjiang High-Tech Park Shanghai 201203, CN
発明者:
周畅 ZHOU, Chang; CN
杨志勇 YANG, Zhiyong; CN
马琳琳 MA, Linlin; CN
代理人:
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) SHANGHAI SAVVY INTELLECTUAL PROPERTY AGENCY; 中国上海市 长宁区天山西路789号1幢341室 Room 341, Building 1 789 West Tianshan Road, Changning District Shanghai 200335, CN
優先権情報:
201710154356.415.03.2017CN
発明の名称: (EN) PHOTOETCHING APPARATUS AND METHOD
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE PHOTOGRAVURE
(ZH) 光刻装置及方法
要約:
(EN) Disclosed are a photoetching apparatus and method. The photoetching apparatus comprises at least two sets of exposure apparatus and one set of substrate apparatus, wherein the substrate apparatus comprises a substrate table (10) and a substrate (7), wherein the substrate table (10) carries the substrate (7); and the at least two sets of exposure apparatus are symmetrically distributed, in the direction of exposure scanning, above the substrate (7), and form two exposure fields on the substrate (7) to expose the substrate (7) in the exposure fields.
(FR) L'invention concerne un appareil et un procédé de photogravure. L'appareil de photogravure comprend au moins deux ensembles d'appareil d'exposition et un ensemble d'appareil de substrat, l'appareil de substrat comprenant une table de substrat (10) et un substrat (7), la table de substrat (10) portant le substrat (7) ; et lesdits ensembles d'appareil d'exposition sont répartis symétriquement, dans la direction de balayage d'exposition, au-dessus du substrat (7), et forment deux champs d'exposition sur le substrat (7) pour exposer le substrat (7) dans les champs d'exposition.
(ZH) 一种光刻装置及方法,光刻装置包括至少两套曝光装置和一套基板装置,其中:基板装置包括一基板台(10)和一基板(7),基板台(10)承载基板(7);至少两套曝光装置沿曝光扫描方向对称分布在基板(7)上方,同时在基板(7)上形成两个曝光场,对曝光场内基板(7)进行曝光。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 中国語 (ZH)
国際出願言語: 中国語 (ZH)