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1. (WO2018164233) 感光性エレメント、半導体装置及びレジストパターンの形成方法
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国際公開番号: WO/2018/164233 国際出願番号: PCT/JP2018/009068
国際公開日: 13.09.2018 国際出願日: 08.03.2018
IPC:
G03F 7/038 (2006.01) ,B32B 27/04 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/075 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,H05K 1/03 (2006.01) ,H05K 3/28 (2006.01) ,H05K 3/46 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
038
不溶性又は特異的に親水性になる高分子化合物
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
27
本質的に合成樹脂からなる積層体
04
含浸,結合または埋め込む物質としてのもの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
075
シリコン含有化合物
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
H 電気
05
他に分類されない電気技術
K
印刷回路;電気装置の箱体または構造的細部,電気部品の組立体の製造
1
印刷回路
02
細部
03
基体用材料の使用
H 電気
05
他に分類されない電気技術
K
印刷回路;電気装置の箱体または構造的細部,電気部品の組立体の製造
3
印刷回路を製造するための装置または方法
22
印刷回路の2次的処理
28
非金属質の保護被覆を施すこと
H 電気
05
他に分類されない電気技術
K
印刷回路;電気装置の箱体または構造的細部,電気部品の組立体の製造
3
印刷回路を製造するための装置または方法
46
多重層回路の製造
出願人:
日立化成株式会社 HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目9番2号 9-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1006606, JP
発明者:
加藤 哲也 KATO Tetsuya; JP
岩下 健一 IWASHITA Kenichi; JP
鈴木 慶一 SUZUKI Yoshikazu; JP
代理人:
長谷川 芳樹 HASEGAWA Yoshiki; JP
清水 義憲 SHIMIZU Yoshinori; JP
平野 裕之 HIRANO Hiroyuki; JP
優先権情報:
2017-04535009.03.2017JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE ELEMENT, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
(FR) ÉLÉMENT PHOTOSENSIBLE, DISPOSITIF À SEMI-CONDUCTEURS, ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF DE RÉSERVE
(JA) 感光性エレメント、半導体装置及びレジストパターンの形成方法
要約:
(EN) Disclosed is a photosensitive element having a photosensitive layer and a protective layer, wherein the photosensitive layer contains: component (A), a resin having a phenolic hydroxyl group; component (B), a photosensitive acid generator; component (C), a compound having at least one selected from the group consisting of an aromatic ring, a heterocyclic ring, and an alicyclic ring, and having at least one among a methylol group and an alkoxyalkyl group; and component (D), an aliphatic compound having two or more of at least one functional group selected from the group consisting of an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, a glycidyloxy group, an oxetanylalkyl ether group, a vinyl ether group, and a hydroxyl group, and the contents of component (C) and component (D) in the photosensitive layer are within specific ranges.
(FR) La présente invention concerne un élément photosensible ayant une couche photosensible et une couche protectrice, la couche photosensible contenant : un composant (A), une résine ayant un groupe hydroxyle phénolique ; un composant (B), un générateur d'acide photosensible ; un composant (C), un composé ayant au moins un élément choisi dans le groupe constitué d'un noyau aromatique, d'un noyau hétérocyclique et d'un noyau alicyclique, et ayant au moins un élément parmi un groupe méthylolique et un groupe alcoxyalkyle ; et un composant (D), un composé aliphatique ayant deux éléments ou plus d'au moins un groupe fonctionnel choisi dans le groupe constitué par un groupe acryloyloxy, un groupe méthacryloyloxy, un groupe glycidyloxy, un groupe éther oxétanylalkyle, un groupe éther vinylique et un groupe hydroxyle, et les contenus du composant (C) et du composant (D) dans la couche photosensible se trouvent dans des plages spécifiques.
(JA) 感光層と保護層とを備え、上記感光層が、(A)成分:フェノール性水酸基を有する樹脂と、(B)成分:光感応性酸発生剤と、(C)成分:芳香環、複素環及び脂環からなる群から選ばれる少なくとも1種を有し、かつ、メチロール基及びアルコキシアルキル基の少なくとも一方を有する化合物と、(D)成分:アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、グリシジルオキシ基、オキセタニルアルキルエーテル基、ビニルエーテル基及び水酸基からなる群から選択される1種以上の官能基を、2つ以上有する脂肪族化合物と、を含有し、感光層における(C)成分及び(D)成分の含有量が特定の範囲内である、感光性エレメントが開示される。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)