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1. (WO2018163988) 表示基板及び表示装置
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国際公開番号: WO/2018/163988 国際出願番号: PCT/JP2018/007979
国際公開日: 13.09.2018 国際出願日: 02.03.2018
IPC:
G02F 1/1333 (2006.01) ,G02F 1/1339 (2006.01) ,G02F 1/1345 (2006.01) ,G06F 3/041 (2006.01)
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133
構造配置;液晶セルの作動;回路配置
1333
構造配置
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133
構造配置;液晶セルの作動;回路配置
1333
構造配置
1339
ガスケット;スペーサ;セルの封止
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133
構造配置;液晶セルの作動;回路配置
1333
構造配置
1345
電極をセル端子に接続する導体
G 物理学
06
計算;計数
F
電気的デジタルデータ処理
3
計算機で処理しうる形式にデータを変換するための入力装置;処理ユニットから出力ユニットへデータを転送するための出力装置,例.インタフェース装置
01
ユーザーと計算機との相互作用のための入力装置または入力と出力が結合した装置
03
器具の位置または変位をコード信号に変換するための装置
041
変換手段よって特徴付けられたデジタイザー,例.タッチスクリーンまたはタッチパッド用のもの
出願人:
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
発明者:
前田 昌紀 MAEDA Masaki; --
原 義仁 HARA Yoshihito; --
代理人:
特許業務法人暁合同特許事務所 AKATSUKI UNION PATENT FIRM; 愛知県名古屋市中区栄二丁目1番1号 日土地名古屋ビル5階 5th Floor, Nittochi Nagoya Bldg., 1-1, Sakae 2-chome, Naka-ku, Nagoya-shi, Aichi 4600008, JP
優先権情報:
2017-04593310.03.2017JP
発明の名称: (EN) DISPLAY SUBSTRATE AND DISPLAY DEVICE
(FR) SUBSTRAT D'AFFICHAGE ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(JA) 表示基板及び表示装置
要約:
(EN) An array substrate 10b includes: a metallic film 21 disposed on the upper-layer side of a planarizing film 20; a lower-layer-side interlayer insulating film 22 and an upper-layer-side interlayer insulating film 24 disposed on the upper-layer side of the metallic film 21 and having film thicknesses less than the film thickness of the planarizing film 20; an orientation film 10n disposed on the upper-layer side of the lower-layer-side interlayer insulating film 22 and the upper-layer-side interlayer insulating film 24; touch wiring lines 15 formed of the metallic film 21 and extending so as to span a display area AA and a non-display area NAA; and film-formation-range restricting recessed portions 30 disposed in the non-display area NAA so as to extend in a direction crossing the extending direction of the touch wiring lines 15 and provided in such forms that the planarizing film 20 is partially recessed and so as not to overlap the touch wiring lines 15, thereby restricting the film formation range of the orientation film 10n.
(FR) Un substrat de réseau comprend : un film métallique disposé sur le côté de la couche supérieure d'un film de planarisation; un film isolant intercouche côté couche inférieure 22 et un film isolant intercouche côté couche supérieure 24 disposé sur le côté couche supérieure du film métallique 21 et ayant des épaisseurs de film inférieures à l'épaisseur de film du film de planarisation 20; un film d'orientation qui est disposé sur le côté couche supérieure du film isolant intercouche côté couche inférieure et du film isolant intercouche côté couche supérieure; des lignes de câblage tactile formées sur le film métallique et s'étendant de façon à couvrir une zone d'affichage AA et une zone de non-affichage NAA; et des parties renfoncées de restriction de portée de formation de film 30 disposées dans la zone de non-affichage NAA de façon à s'étendre dans une direction croisant la direction d'extension des lignes de câblage tactile 15 et disposée de telle sorte que le film de planarisation 20 est partiellement en retrait et de façon à ne pas chevaucher les lignes de câblage tactile 15, limitant ainsi la plage de formation de film du film d'orientation 10n.
(JA) アレイ基板10bは、平坦化膜20の上層側に配される金属膜21と、金属膜21の上層側に配されるとともに膜厚が平坦化膜20よりも小さい下層側層間絶縁膜22及び上層側層間絶縁膜24と、下層側層間絶縁膜22及び上層側層間絶縁膜24よりも上層側に配される配向膜10nと、金属膜21からなり、表示領域AAと非表示領域NAAとに跨る形で延在するタッチ配線15と、非表示領域NAAに配されてタッチ配線15の延在方向と交差する方向に沿って延在し、平坦化膜20を部分的に凹ませる形で且つタッチ配線15とは非重畳となる形で設けられて配向膜10nの成膜範囲を規制する成膜範囲規制凹状部30と、を備える。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)