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1. (WO2018163983) 表示基板及び表示装置
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国際公開番号: WO/2018/163983 国際出願番号: PCT/JP2018/007950
国際公開日: 13.09.2018 国際出願日: 02.03.2018
IPC:
G02F 1/1333 (2006.01) ,G02F 1/1337 (2006.01) ,G02F 1/1339 (2006.01) ,G02F 1/1345 (2006.01) ,G06F 3/041 (2006.01)
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133
構造配置;液晶セルの作動;回路配置
1333
構造配置
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133
構造配置;液晶セルの作動;回路配置
1333
構造配置
1337
液晶分子の界面による配向,例.配向層
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133
構造配置;液晶セルの作動;回路配置
1333
構造配置
1339
ガスケット;スペーサ;セルの封止
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133
構造配置;液晶セルの作動;回路配置
1333
構造配置
1345
電極をセル端子に接続する導体
G 物理学
06
計算;計数
F
電気的デジタルデータ処理
3
計算機で処理しうる形式にデータを変換するための入力装置;処理ユニットから出力ユニットへデータを転送するための出力装置,例.インタフェース装置
01
ユーザーと計算機との相互作用のための入力装置または入力と出力が結合した装置
03
器具の位置または変位をコード信号に変換するための装置
041
変換手段よって特徴付けられたデジタイザー,例.タッチスクリーンまたはタッチパッド用のもの
出願人:
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
発明者:
前田 昌紀 MAEDA Masaki; --
原 義仁 HARA Yoshihito; --
代理人:
特許業務法人暁合同特許事務所 AKATSUKI UNION PATENT FIRM; 愛知県名古屋市中区栄二丁目1番1号 日土地名古屋ビル5階 5th Floor, Nittochi Nagoya Bldg., 1-1, Sakae 2-chome, Naka-ku, Nagoya-shi, Aichi 4600008, JP
優先権情報:
2017-04593210.03.2017JP
発明の名称: (EN) DISPLAY SUBSTRATE AND DISPLAY DEVICE
(FR) SUBSTRAT D'AFFICHAGE ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(JA) 表示基板及び表示装置
要約:
(EN) An array substrate 10b includes: a glass substrate 10GS segmented into a display area AA and a non-display area NAA; a planarizing film 20; a third metallic film 21 disposed on the upper-layer side of the planarizing film 20; a lower-layer-side interlayer insulating film 22 and an upper-layer-side interlayer insulating film 24 disposed on the upper-layer side of the third metallic film 21 and having film thicknesses less than the film thickness of the planarizing film 20; an orientation film 10n disposed on the upper-layer side of the lower-layer-side interlayer insulating film 22 and the upper-layer-side interlayer insulating film 24; a touch wiring line 15 formed of the third metallic film 21 and extending so as to span the display area AA and the non-display area NAA; and film-formation-range restricting recessed portions 30 disposed in the non-display area NAA so as to extend across the touch wiring line 15 and provided in such forms that the lower-layer-side interlayer insulating film 22 and the upper-layer-side interlayer insulating film 24 are partially recessed, thereby restricting the film formation range of the orientation film 10n.
(FR) Un substrat de réseau 10b selon l'invention comprend : un substrat de verre 10GS segmenté en une zone d'affichage AA et une zone de non-affichage NAA ; un film de planarisation 20 ; un troisième film métallique 21 disposé sur le côté couche supérieure du film de planarisation 20 ; un film isolant intercouche côté couche inférieure 22 et un film isolant intercouche côté couche supérieure 24 disposé sur le côté couche supérieure du troisième film métallique 21 et ayant des épaisseurs de film inférieures à l'épaisseur de film du film de planarisation 20 ; un film d'orientation 10n disposé sur le côté couche supérieure du film isolant intercouche côté couche inférieure 22 et du film isolant intercouche côté couche supérieure 24 ; une ligne de câblage tactile 15 formée par le troisième film métallique 21 et s'étendant de manière à couvrir la zone d'affichage AA et la zone de non-affichage NAA ; et des parties évidées de restriction d'étendue de formation de film 30 disposées dans la zone de non-affichage NAA de façon à s'étendre à travers la ligne de câblage tactile 15 et disposées de telle sorte que le film isolant intercouche côté couche inférieure 22 et le film isolant intercouche côté couche supérieure 24 sont partiellement évidés, limitant ainsi l'étendue de formation de film du film d'orientation 10n.
(JA) アレイ基板10bは、表示領域AAと非表示領域NAAとに区分されるガラス基板10GSと、平坦化膜20と、平坦化膜20の上層側に配される第3金属膜21と、第3金属膜21の上層側に配されるとともに膜厚が平坦化膜20よりも小さい下層側層間絶縁膜22及び上層側層間絶縁膜24と、下層側層間絶縁膜22及び上層側層間絶縁膜24よりも上層側に配される配向膜10nと、第3金属膜21からなり、表示領域AAと非表示領域NAAとに跨る形で延在するタッチ配線15と、非表示領域NAAに配されてタッチ配線15を横切る形で延在し、下層側層間絶縁膜22及び上層側層間絶縁膜24を部分的に凹ませる形で設けられて配向膜10nの成膜範囲を規制する成膜範囲規制凹状部30と、を備える。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)