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1. (WO2018163929) 低屈折率膜形成用液組成物及びこれを用いた低屈折率膜の形成方法
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国際公開番号: WO/2018/163929 国際出願番号: PCT/JP2018/007484
国際公開日: 13.09.2018 国際出願日: 28.02.2018
IPC:
C09D 163/00 (2006.01) ,C03C 17/28 (2006.01) ,C09D 7/61 (2018.01)
C 化学;冶金
09
染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
D
コーティング組成物,例.ペンキ,ワニスまたはラッカー;パテ;塗料除去剤インキ消し;インキ;修正液;木材用ステイン;糊状または固形の着色料または捺染料;これらの物質の使用法
163
エポキシ樹脂に基づくコーティング組成物;エポキシ樹脂の誘導体に基づくコーティング組成物
C 化学;冶金
03
ガラス;鉱物またはスラグウール
C
ガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグからの繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
17
繊維やフィラメントの形態をとらないガラス,例.結晶化ガラス,の被覆による表面処理
28
有機物質によるもの
[IPC code unknown for C09D 7/61]
出願人:
三菱マテリアル株式会社 MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION [JP/JP]; 東京都千代田区大手町一丁目3番2号 3-2, Otemachi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008117, JP
発明者:
日向野 怜子 HIGANO Satoko; JP
山▲崎▼ 和彦 YAMASAKI Kazuhiko; JP
代理人:
松沼 泰史 MATSUNUMA Yasushi; JP
寺本 光生 TERAMOTO Mitsuo; JP
細川 文広 HOSOKAWA Fumihiro; JP
大浪 一徳 ONAMI Kazunori; JP
優先権情報:
2017-04354608.03.2017JP
発明の名称: (EN) LOW-REFRACTIVE-INDEX FILM-FORMING LIQUID COMPOSITION AND METHOD OF FORMING LOW-REFRACTIVE-INDEX FILM USING SAME
(FR) COMPOSITION LIQUIDE FILMOGÈNE À FAIBLE INDICE DE RÉFRACTION ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN FILM À FAIBLE INDICE DE RÉFRACTION EN UTILISANT CELLE-CI
(JA) 低屈折率膜形成用液組成物及びこれを用いた低屈折率膜の形成方法
要約:
(EN) The low-refractive-index film-forming liquid composition according to the present invention contains (A) an epoxy resin comprising a naphthalene skeleton within the molecular structure thereof, (B) a silica sol of spherical colloidal silica particles and bead-shaped colloidal silica particles dispersed in a liquid medium, and (C) an organic solvent; when the solids of the dried and cured epoxy resin is considered to be 100% by mass, the silica sol has a SiO2 content of 100–3000% by mass.
(FR) La présente invention concerne une composition liquide filmogène à faible indice de réfraction contenant (A) une résine époxyde comprenant un squelette de naphtalène dans sa structure moléculaire, (B) un sol siliceux de particules de silice colloïdale sphériques et de particules de silice colloïdale en forme de billes dispersées dans un milieu liquide, et (C) un solvant organique. Lorsque les solides de la résine époxyde séchée et durcie sont considérés égaux à 100 % massiques, le sol siliceux présente une teneur en SiO2 de 100 à 3000 % massiques.
(JA) 本発明の低屈折率膜形成用液組成物は、(A)分子構造中にナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂と、(B)球状コロイダルシリカ粒子及び数珠状コロイダルシリカ粒子が液体媒体中に分散したシリカゾルと、(C)有機溶媒と、を含み、前記エポキシ樹脂の乾燥硬化後の固形分を100質量%とするとき、前記シリカゾルに含有されるSiO分を100~3000質量%含む。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)