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1. (WO2018163883) 蒸着基材用ポリエチレン系フィルム及びそれを用いた蒸着フィルム
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/163883 国際出願番号: PCT/JP2018/006946
国際公開日: 13.09.2018 国際出願日: 26.02.2018
IPC:
B32B 27/18 (2006.01) ,B32B 27/32 (2006.01) ,C23C 14/20 (2006.01) ,C23C 14/14 (2006.01)
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
27
本質的に合成樹脂からなる積層体
18
特別な添加剤の使用を特徴とするもの
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
27
本質的に合成樹脂からなる積層体
32
ポリオレフインからなるもの
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
06
被覆材料に特徴のあるもの
14
金属質材料,ほう素またはけい素
20
有機質基板上に被覆するもの
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
06
被覆材料に特徴のあるもの
14
金属質材料,ほう素またはけい素
出願人: TOYOBO CO., LTD.[JP/JP]; 2-8, Dojima Hama 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5308230, JP
発明者: OGI, Hirokazu; JP
OSAME, Satoshi; JP
TANAKA, Hiroki; JP
代理人: UEKI, Kyuichi; JP
UEKI, Hisahiko; JP
SUGAWA, Tadashi; JP
ITO, Hiroaki; JP
優先権情報:
2017-04309607.03.2017JP
発明の名称: (EN) POLYETHYLENE FILM FOR VAPOR DEPOSITION SUBSTRATES AND VAPOR DEPOSITION FILM USING SAME
(FR) FILM DE POLYÉTHYLÈNE POUR SUBSTRATS DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR ET FILM DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR L'UTILISANT
(JA) 蒸着基材用ポリエチレン系フィルム及びそれを用いた蒸着フィルム
要約:
(EN) The present invention addresses the problem of providing a polyethylene film for vapor deposition substrates, which enables the achievement of a vapor deposition film having excellent barrier properties even if the vapor deposition film is obtained by means of vapor deposition using a large-sized vapor deposition machine. A polyethylene film for vapor deposition substrates, which is used as a substrate for a vapor deposition layer, and which is characterized by comprising at least a laminate layer that serves as the vapor deposition layer-side surface and a seal layer that serves as the other surface. This polyethylene film for vapor deposition substrates is also characterized in that: the seal layer contains inorganic particles; the Mohs hardness of the inorganic particles contained in the seal layer is 3 or less; and the seal layer satisfies at least one of the requirements (i) and (ii) described below. (i) The inorganic particles contained in the seal layer have an average particle diameter of from 5 μm to 15 μm (inclusive). (ii) The three-dimensional surface roughness SRa of the sealing layer surface is 0.2 μm or less, and the maximum peak height SRmax of the sealing layer surface is 6 μm or less.
(FR) La présente invention traite le problème de la réalisation d'un film de polyéthylène pour substrats de dépôt en phase vapeur, qui permet d'obtenir un film de dépôt en phase vapeur présentant d'excellentes propriétés de barrière même si le film de dépôt en phase vapeur est obtenu par dépôt de vapeur à l'aide d'une machine de dépôt en phase vapeur de grande taille. Un film de polyéthylène pour substrats de dépôt en phase vapeur selon l'invention est utilisé en tant que substrat pour une couche de dépôt en phase vapeur, et est caractérisé en ce qu'il comporte au moins une couche stratifiée servant de surface côté couche de dépôt en phase vapeur et une couche d'étanchéité servant d'autre surface. Ce film de polyéthylène pour substrats de dépôt en phase vapeur est également caractérisé en ce que: la couche d'étanchéité contient des particules inorganiques; la dureté Mohs des particules inorganiques contenues dans la couche d'étanchéité est d'au plus 3; et la couche d'étanchéité satisfait au moins une des exigences (i) et (ii) décrites ci-dessous. (i) Les particules inorganiques contenues dans la couche d'étanchéité présentent un diamètre moyen de particules allant de 5 µm à 15 µm (inclus). (ii) La rugosité de surface tridimensionnelle SRa de la surface de la couche d'étanchéité est d'au plus 0,2 µm, et la hauteur maximale de pics SRmax de la surface de la couche d'étanchéité est d'au plus 6 µm.
(JA) 大型蒸着機を用いて蒸着を施した蒸着フィルムであっても優れたバリア性を有する蒸着基材用ポリエチレン系フィルムを提供することを課題として掲げる。 蒸着層の基材として用いるためのポリエチレン系フィルムであって、上記ポリエチレン系フィルムは、蒸着層側の表面となるラミネート層と、他方の表面となるシール層とを少なくとも有し、上記シール層は、無機粒子を含んでおり、上記シール層に含有されている上記無機粒子のモース硬度が3以下であり、かつ、以下の(i)及び(ii)の少なくとも一方を満たすことを特徴とする蒸着基材用ポリエチレン系フィルムであることを特徴とする。 (i)上記シール層に含有されている上記無機粒子の平均粒径が5μm以上15μm以下である (ii)上記シール層表面の三次元表面粗さSRaが0.2μm以下であり、上記シール層表面の最大山高さSRmaxが6μm以下である
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)