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1. (WO2018163861) Cu-Ni合金スパッタリングターゲット及びその製造方法
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国際公開番号: WO/2018/163861 国際出願番号: PCT/JP2018/006685
国際公開日: 13.09.2018 国際出願日: 23.02.2018
IPC:
C23C 14/34 (2006.01) ,C22C 9/06 (2006.01) ,C22C 19/03 (2006.01) ,C22F 1/00 (2006.01) ,C22F 1/10 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
34
スパッタリング
C 化学;冶金
22
冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理
C
合金
9
銅基合金
06
次に多い成分としてニッケルまたはコバルトを含むもの
C 化学;冶金
22
冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理
C
合金
19
ニッケルまたはコバルトを基とする合金
03
ニッケルを基とする合金
C 化学;冶金
22
冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理
F
非鉄金属または非鉄合金の物理的構造の変化
1
非鉄金属または合金の熱処理によるか熱間または冷間加工による物理的構造の変化
C 化学;冶金
22
冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理
F
非鉄金属または非鉄合金の物理的構造の変化
1
非鉄金属または合金の熱処理によるか熱間または冷間加工による物理的構造の変化
10
ニッケルまたはコバルトまたはそれらを基とする合金
出願人:
三菱マテリアル株式会社 MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION [JP/JP]; 東京都千代田区大手町一丁目3番2号 3-2, Otemachi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008117, JP
発明者:
小見山 昌三 KOMIYAMA Shozo; JP
代理人:
松沼 泰史 MATSUNUMA Yasushi; JP
寺本 光生 TERAMOTO Mitsuo; JP
細川 文広 HOSOKAWA Fumihiro; JP
大浪 一徳 ONAMI Kazunori; JP
優先権情報:
2017-04216206.03.2017JP
2017-24110315.12.2017JP
発明の名称: (EN) Cu-Ni ALLOY SPUTTERING TARGET AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
(FR) CIBLE DE PULVÉRISATION EN ALLIAGE Cu-Ni ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) Cu-Ni合金スパッタリングターゲット及びその製造方法
要約:
(EN) This Cu-Ni alloy sputtering target has a composition such that: Ni is contained in the range of 16 mass% to 55 mass%; the hydrogen content is less than 5 mass ppm, the oxygen content is 500 mass ppm or less, and the carbon content is 500 mass ppm or less; and the balance is Cu and unavoidable impurities. The number of voids with a maximum diameter of at least 2 µm is not more than 1 per 1 mm2 region in the sputtering surface.
(FR) Cette cible de pulvérisation en alliage Cu-Ni a une composition telle que : Ni est contenu dans la plage de 16 % en masse à 55 % en masse; la teneur en hydrogène est inférieure à 5 ppm en masse, la teneur en oxygène est de 500 ppm en masse ou moins, et la teneur en carbone est de 500 ppm en masse ou moins; et le reste est du Cu et des impuretés inévitables. Le nombre de vides ayant un diamètre maximal supérieur ou égal à 2 µm est inférieur ou égal à 1 par zone de 1 mm2 dans la surface de pulvérisation.
(JA) このCu-Ni合金スパッタリングターゲットは、Niを16質量%以上55質量%以下の範囲で含有し、水素の含有量が5質量ppm未満、酸素の含有量が500質量ppm以下、炭素の含有量が500質量ppm以下であり、残部がCuおよび不可避不純物からなる組成を有し、最大径が2μm以上のボイドの数が、スパッタ面内の1mmの領域あたり1個以下である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)