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1. (WO2018163781) 表面処理組成物、およびその製造方法、ならびに表面処理組成物を用いた表面処理方法および半導体基板の製造方法

Pub. No.:    WO/2018/163781    International Application No.:    PCT/JP2018/005779
Publication Date: Fri Sep 14 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Tue Feb 20 00:59:59 CET 2018
IPC: H01L 21/304
C11D 3/37
C11D 7/22
Applicants: FUJIMI INCORPORATED
株式会社フジミインコーポレーテッド
Inventors: ISHIDA, Yasuto
石田 康登
YOSHINO, Tsutomu
吉野 努
ONISHI, Shogo
大西 正悟
YOSHIZAKI, Yukinobu
吉▲崎▼ 幸信
Title: 表面処理組成物、およびその製造方法、ならびに表面処理組成物を用いた表面処理方法および半導体基板の製造方法
Abstract:
【課題】研磨済研磨対象物の表面に残留する残渣を十分に除去する手段を提供することを目的とする。 【解決手段】スルホン酸(塩)基、リン酸(塩)基、ホスホン酸(塩)基、およびアミノ基からなる群より選択される少なくとも1種のイオン性官能基を有する高分子化合物と、水と、を含有し、pHが7未満であり、前記高分子化合物は、pKaが3以下であり、イオン性官能基密度が10%超である、表面処理組成物。