このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2018159629) 感光性樹脂組成物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/159629 国際出願番号: PCT/JP2018/007320
国際公開日: 07.09.2018 国際出願日: 27.02.2018
IPC:
G03F 7/031 (2006.01) ,C07C 13/58 (2006.01) ,C07C 43/20 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/027 (2006.01) ,G03F 7/033 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
028
増感物質をもつもの,例.光重合開始剤
031
グループ7/029に包含されない有機化合物
C 化学;冶金
07
有機化学
C
非環式化合物または炭素環式化合物
13
6員芳香環以外の環を含有する環式炭化水素またはそれらの環と6員芳香環とを含有する環式炭化水素
28
多環式炭化水素またはそれらの非環式炭化水素誘導体
32
縮合環をもつもの
54
3個の縮合環を有するもの
573
3個の6員環をもつもの
58
完全または部分水素化されたアントラセン
C 化学;冶金
07
有機化学
C
非環式化合物または炭素環式化合物
43
エーテル;「図」基,「図」基または「図」基をもつ化合物
02
エーテル
20
エーテル基の酸素原子が6員芳香環の炭素原子に結合しているもの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
032
結合剤をもつもの
033
結合剤が炭素-炭素不飽和結合を含む反応のみによって得られた重合体であるもの,例.ビニル重合体
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
出願人:
旭化成株式会社 ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 東京都千代田区有楽町一丁目1番2号 1-1-2 Yurakucho, Chiyoda-ku, Tokyo 1000006, JP
発明者:
山田 有里 YAMADA, Yuri; JP
小坂 隼也 KOSAKA, Junya; JP
松田 隆之 MATSUDA, Takayuki; JP
代理人:
青木 篤 AOKI, Atsushi; JP
三橋 真二 MITSUHASHI, Shinji; JP
中村 和広 NAKAMURA, Kazuhiro; JP
齋藤 都子 SAITO, Miyako; JP
三間 俊介 MIMA, Shunsuke; JP
優先権情報:
2017-03826501.03.2017JP
2017-16405529.08.2017JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE
(JA) 感光性樹脂組成物
要約:
(EN) The present invention provides a photosensitive resin composition that is used for two-wavelength exposure and exhibits excellent exposure sensitivity, adhesion, and resolution. This photosensitive resin composition is used for production of a cured resin product through exposure using first active light having a central wavelength less than 390 nm and second active light having a central wavelength of at least 390 nm, wherein the photosensitive resin composition contains an alkali-soluble polymer (A), a compound (B) having an ethylenic double bond, and a photopolymerization initiator (C); the photosensitive resin composition is sensitive to both the first active light and the second active light; and the photopolymerization initiator (C) contains anthracene and/or an anthracene derivative.
(FR) L’invention fournit une composition de résine photosensible qui est mise en œuvre dans une exposition à deux longueurs d’onde, et qui confère d’excellentes propriétés en termes de sensibilité à l’exposition, d’adhésion et de résolution. Plus précisément, l’invention concerne une composition de résine photosensible qui est destinée à obtenir un article durci en résine par exposition au moyen d’une première lumière active de longueur d’onde centrale inférieure à 390nm, et d’une seconde lumière active de longueur d’onde centrale supérieure ou égale à 390nm. Ladite composition de résine photosensible contient un polymère soluble dans l’alcali (A), un composé (B) possédant une liaison double éthylénique, et un initiateur de photopolymérisation (C). Ladite composition de résine photosensible présente une photosensibilité vis-à-vis à la fois de ladite première et de ladite seconde lumière active. L’initiateur de photopolymérisation (C) contient un anthracène et/ou un dérivé d’anthracène.
(JA) 2波長露光に使用され、優れた露光感度、密着性及び解像性を与える感光性樹脂組成物を提供する。中心波長390nm未満の第1の活性光と、中心波長390nm以上の第2の活性光とで露光して樹脂硬化物を得るための感光性樹脂組成物であって、前記感光性樹脂組成物は、(A)アルカリ可溶性高分子、(B)エチレン性二重結合を有する化合物、及び(C)光重合開始剤を含み、前記感光性樹脂組成物は、前記第1の活性光及び前記第2の活性光の両者に対する感光性を有し、前記(C)光重合開始剤はアントラセン及び/又はアントラセン誘導体を含む感光性樹脂組成物。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)