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1. (WO2018159450) 物理量センサ
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国際公開番号: WO/2018/159450 国際出願番号: PCT/JP2018/006453
国際公開日: 07.09.2018 国際出願日: 22.02.2018
IPC:
G01L 9/00 (2006.01) ,G01P 15/12 (2006.01)
G 物理学
01
測定;試験
L
力,応力,トルク,仕事,機械的動力,機械的効率,または流体圧力の測定
9
電気的または磁気的感圧素子による流体または流動性固体の定常圧または準定常圧の測定;流体または流動性固体の定常圧または準定常圧の測定に用いられる機械的感圧素子の変位の電気的または磁気的手段による伝達または指示
G 物理学
01
測定;試験
P
直線速度または角速度,加速度,減速度または衝撃の測定;運動の有無の指示;運動の方向の指示
15
加速度の測定,減速度の測定;衝撃,すなわち加速度の急激な変化,の測定
02
慣性力の利用によるもの
08
電気値または磁気値への変換を伴うもの
12
電気抵抗の変化によるもの
出願人:
株式会社デンソー DENSO CORPORATION [JP/JP]; 愛知県刈谷市昭和町1丁目1番地 1-1, Showa-cho, Kariya-city, Aichi 4488661, JP
発明者:
早川 裕 HAYAKAWA Yutaka; JP
与倉 久則 YOKURA Hisanori; JP
代理人:
特許業務法人ゆうあい特許事務所 YOU-I PATENT FIRM; 愛知県名古屋市中区錦一丁目6番5号 名古屋錦シティビル4階 Nagoya Nishiki City Bldg. 4F 1-6-5, Nishiki, Naka-ku, Nagoya-shi, Aichi 4600003, JP
優先権情報:
2017-03727628.02.2017JP
発明の名称: (EN) PHYSICAL QUANTITY SENSOR
(FR) DÉTECTEUR DE QUANTITÉ PHYSIQUE
(JA) 物理量センサ
要約:
(EN) The present invention is provided with a first substrate (10) in which a thin film part (12) is formed on a one-surface (10a) side by a recess part (11) being formed on an other-surface (10b) side, and a second substrate (20) in which a cavity part (20c) is formed in a portion of one surface (20a) that faces the recess part (11). The recess part (11) of the first substrate (10) and the cavity part (20c) of the second substrate (20) are configured to be of such size that a projection line, in which an end part of the bottom surface in the recess part (11) is projected on the one surface (10a) of the first substrate (10), surrounds an open end of the cavity part (20c). In the surface of the thin film part (12) on the other-surface (10b) side of the first substrate (10), a configuration is adopted such that, when a position that intersects an extension line along a direction normal to the one surface (10a) of the first substrate (10) through the open end of the cavity part (20c) is designated as a specified position, the greatest tensile stress is generated at the specified position on the thin film part (12) when the thin film part (12) is displaced toward the cavity part (20c).
(FR) La présente invention comporte un premier substrat (10) dans lequel une partie de film mince (12) est formée sur un côté de première surface (10a) par une partie évidée (11) formée sur un côté d'autre surface (10b), et un second substrat (20) dans lequel une partie de cavité (20c) est formée dans une partie d'une première surface (20a) qui fait face à la partie évidée (11). La partie évidée (11) du premier substrat (10) et la partie de cavité (20c) du second substrat (20) sont conçues selon une taille telle qu'une ligne de projection, dans laquelle une partie d'extrémité de la surface inférieure dans la partie évidée (11) est projetée sur la première surface (10a) du premier substrat (10), entoure une extrémité ouverte de la partie de cavité (20c). Dans la surface de la partie de film mince (12) sur le côté d'autre surface (10b) du premier substrat (10), il est adopté une configuration telle que, lorsqu'une position qui croise une ligne d'extension dans une direction perpendiculaire à la première surface (10a) du premier substrat (10) à travers l'extrémité ouverte de la partie de cavité (20c) est désignée en tant que position spécifiée, la plus grande contrainte de traction est générée à la position spécifiée sur la partie de film mince (12) lorsque la partie de film mince (12) est déplacée vers la partie de cavité (20c).
(JA) 他面(10b)側に凹部(11)が形成されることで一面(10a)側に薄膜部(12)が形成される第1基板(10)と、一面(20a)のうちの凹部(11)と対向する部分に窪み部(20c)が形成された第2基板(20)とを備え、第1基板(10)の凹部(11)および第2基板(20)の窪み部(20c)は、凹部(11)における底面の端部を第1基板(10)の一面(10a)に投影した投影線が窪み部(20c)の開口端を囲む大きさとなるようにする。そして、薄膜部(12)のうちの第1基板(10)の他面(10b)側の面において、窪み部(20c)の開口端を通り、第1基板(10)の一面(10a)に対する法線方向に沿った延長線と交差する位置を特定位置とすると、薄膜部(12)が窪み部(20c)側に変位する際、薄膜部(12)には、特定位置にて最も大きな引張応力が発生するようにする。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)