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1. (WO2018159389) TFT基板、TFT基板を備えた走査アンテナ、およびTFT基板の製造方法
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国際公開番号: WO/2018/159389 国際出願番号: PCT/JP2018/006013
国際公開日: 07.09.2018 国際出願日: 20.02.2018
IPC:
H01L 29/786 (2006.01) ,G02F 1/13 (2006.01) ,G02F 1/1343 (2006.01) ,G02F 1/1368 (2006.01) ,H01Q 3/34 (2006.01) ,H01Q 3/44 (2006.01) ,H01Q 13/22 (2006.01) ,H01Q 21/06 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
29
整流,増幅,発振またはスイッチングに特に適用される半導体装置であり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合空乏層またはキャリア集中層,を有するコンデンサーまたは抵抗器;半導体本体または電極の細部整流,増幅,発振またはスイッチングに特に適用される半導体装置であり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合空乏層またはキャリア集中層,を有するコンデンサーまたは抵抗器;半導体本体または電極の細部(31/00~47/00,51/05が優先;半導体本体または電極以外の細部23/00;1つの共通基板内または上に形成された複数の固体構成部品からなる装置27/00
66
半導体装置の型
68
整流,増幅またはスイッチされる電流を流さない電極に電流のみまたは電位のみを与えることにより制御できるもの
76
ユニポーラ装置
772
電界効果トランジスタ
78
絶縁ゲートによって生じる電界効果を有するもの
786
薄膜トランジスタ
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133
構造配置;液晶セルの作動;回路配置
1333
構造配置
1343
電極
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133
構造配置;液晶セルの作動;回路配置
136
半導体の層または基板と構造上組み合された液晶セル,例.集積回路の一部を構成するセル
1362
アクティブマトリックスセル
1368
スイッチング素子が三端子の素子であるもの
H 電気
01
基本的電気素子
Q
空中線
3
空中線または空中線系から放射される電波の指向特性の方向または形を変えるための構成
26
2つ以上の輻射素子の間の励振電力の相対的な位相または振幅を変えるもの;放射開口に加えるエネルギの分布を変えるもの
30
位相を変えるもの
34
電気的な手段によるもの
H 電気
01
基本的電気素子
Q
空中線
3
空中線または空中線系から放射される電波の指向特性の方向または形を変えるための構成
44
輻射器と組み合わされた反射,屈折または回折するための装置の電気的または磁気的な特性を変えるもの
H 電気
01
基本的電気素子
Q
空中線
13
導波管ホーンまたは開口;スロット空中線;漏洩導波管空中線;伝送路に沿って放射を起こす等価構成
20
非共振漏洩導波管または伝送線路空中線;伝送路に沿って放射を起す等価構成
22
導波管や伝送線路の境界壁に軸方向に設けたスロット
H 電気
01
基本的電気素子
Q
空中線
21
空中線配列または系
06
同一方向に偏波された間隔を置いて配置された個々に励振された空中線単位の配列
出願人:
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
発明者:
美崎 克紀 MISAKI Katsunori; --
代理人:
奥田 誠司 OKUDA Seiji; JP
優先権情報:
2017-03714028.02.2017JP
発明の名称: (EN) TFT SUBSTRATE, SCANNING ANTENNA PROVIDED WITH TFT SUBSTRATE, AND METHOD FOR MANUFACTURING TFT SUBSTRATE
(FR) SUBSTRAT TFT, ANTENNE À BALAYAGE COMPRENANT UN SUBSTRAT TFT, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE SUBSTRAT TFT
(JA) TFT基板、TFT基板を備えた走査アンテナ、およびTFT基板の製造方法
要約:
(EN) A TFT substrate (106) is provided with: a transmission/reception region (R1) that includes a plurality of antenna unit regions (U); and a non-transmission/reception region (R2) that is positioned in a region other than the transmission/reception region. Each of the antenna unit regions has a TFT (10), and a patch electrode (15) that is electrically connected to a drain electrode (7D) of the TFT. The TFT substrate has a gate metal layer (3) that includes a gate electrode (3G) of the TFT, a gate insulating layer (4), a source metal layer (7) that includes a drain electrode and a source electrode (7S) of the TFT, a first insulating layer (11), a patch metal layer (15l) that includes a patch electrode, a second insulating layer (17), and an upper conductive layer (19). The upper conductive layer includes a patch drain connection part (19a) that is electrically connected to the patch electrode and the drain electrode.
(FR) La présente invention concerne un substrat TFT (106) comprenant : une région d'émission/réception (R1) incluant la pluralité de régions d'unité d'antenne (U) ; et une région de non-émission/réception (R2) positionnée dans une région autre que la région d'émission/réception. Chaque zone de la pluralité de zones d'unité d'antenne comprend un transistor en couches minces (TFT) (10) et une électrode adhésive (15) connectée électriquement à une électrode de drain (7D) du TFT. Le substrat TFT a une couche de métal de grille (3) qui comprend une électrode de grille (3G) du TFT, une couche d'isolation de grille (4), une couche de métal de source (7) qui comprend une électrode de drain et une électrode de source (7S) du TFT, une première couche d'isolation (11), une couche métallique adhésive (15l) qui comprend une électrode de plaque, une seconde couche d'isolation (17), et une couche conductrice supérieure (19). La couche conductrice supérieure comprend une partie de connexion de drain adhésive (19a) qui est électriquement connectée à l'électrode de plaque et à l'électrode de drain.
(JA) TFT基板(106)は、複数のアンテナ単位領域(U)を含む送受信領域(R1)と、送受信領域以外の領域に位置する非送受信領域(R2)とを備える。複数のアンテナ単位領域のそれぞれは、TFT(10)と、TFTのドレイン電極(7D)に電気的に接続されたパッチ電極(15)とを有する。TFT基板は、TFTのゲート電極(3G)を含むゲートメタル層(3)と、ゲート絶縁層(4)と、TFTのソース電極(7S)およびドレイン電極を含むソースメタル層(7)と、第1絶縁層(11)と、パッチ電極を含むパッチメタル層(15l)と、第2絶縁層(17)と、上部導電層(19)とを有し、上部導電層は、パッチ電極およびドレイン電極と電気的に接続されたパッチドレイン接続部(19a)を含む。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)