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1. (WO2018159056) 電子源およびそれを用いた電子線装置
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国際公開番号: WO/2018/159056 国際出願番号: PCT/JP2017/044177
国際公開日: 07.09.2018 国際出願日: 08.12.2017
IPC:
H01J 1/15 (2006.01) ,H01J 1/16 (2006.01) ,H01J 9/04 (2006.01) ,H01J 37/06 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
1
電子管または放電ランプの2以上の基本的な型に共通な電極,磁気制御手段,スクリーンあるいはそれらのマウントまたは間隔保持の細部
02
主電極
13
固体熱電子陰極
15
電流によって直接加熱される陰極
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
1
電子管または放電ランプの2以上の基本的な型に共通な電極,磁気制御手段,スクリーンあるいはそれらのマウントまたは間隔保持の細部
02
主電極
13
固体熱電子陰極
15
電流によって直接加熱される陰極
16
形状に特徴のあるもの
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
9
電子管,放電ランプまたはその部品の製造に特に適用される装置または方法;電子管または放電ランプからの材料の回収
02
電極または電極システムの製造
04
熱陰極の製造
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
37
放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
02
細部
04
電極装置および放電を発生しまたは制御するための関連部品,例.電子光学装置,イオン光学装置
06
電子源;電子銃
出願人:
株式会社日立ハイテクノロジーズ HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西新橋一丁目24番14号 24-14, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717, JP
発明者:
楠 敏明 KUSUNOKI Toshiaki; JP
糟谷 圭吾 KASUYA Keigo; JP
大嶋 卓 OHSHIMA Takashi; JP
橋詰 富博 HASHIZUME Tomihiro; JP
荒井 紀明 ARAI Noriaki; JP
小瀬 洋一 OSE Yoichi; JP
代理人:
ポレール特許業務法人 POLAIRE I.P.C.; 東京都中央区日本橋茅場町二丁目13番11号 13-11, Nihonbashikayabacho 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1030025, JP
優先権情報:
2017-03588228.02.2017JP
発明の名称: (EN) ELECTRON SOURCE AND ELECTRON BEAM DEVICE USING SAME
(FR) SOURCE D’ÉLECTRONS ET DISPOSITIF À FAISCEAU D’ÉLECTRONS UTILISANT CELLE-CI
(JA) 電子源およびそれを用いた電子線装置
要約:
(EN) Provided are an electron source usable stably over a long period of time even if a hexaboride compound is used, and an electron beam device using this electron source. The electron source comprises: a metallic filament (103); a metal tube (112) fixed onto the filament (103) and having a plurality of recessed portions (117) disposed in at least two axial directions in the outer periphery thereof so as to surround a central axis; and a columnar hexaboride compound tip (104) wherefrom electrons are released, disposed so as to protrude from the interior of the metal tube (112) to the side facing away from the filament (103), and in contact with the respective bottom portions of the plurality of recessed portions (117) from the metal tube (112).
(FR) L'invention concerne une source d'électrons pouvant être utilisée de manière stable sur une longue période de temps même si un composé d'hexaborure est utilisé, et un dispositif à faisceau d'électrons utilisant cette source d'électrons. La source d'électrons comprend : un filament métallique (103); un tube métallique (112) fixé sur le filament (103) et ayant une pluralité de parties évidées (117) disposées dans au moins deux directions axiales dans sa périphérie externe de manière à entourer un axe central; et une pointe de composé d'hexaborure en colonne (104) d'où des électrons sont libérés, disposée de manière à faire saillie à partir de l'intérieur du tube métallique (112) vers le côté opposé au filament (103), et en contact avec les parties inférieures respectives de la pluralité de parties évidées (117) à partir du tube métallique (112).
(JA) 六ホウ化物を用いた場合であっても、長時間安定に使用できる電子源およびそれを用いた電子線装置を提供する。金属製のフィラメント(103)と、フィラメント(103)に固定され、外周において中心軸を囲むように少なくとも2軸方向に配置された複数の凹部(117)を有する金属管(112)と、電子を放出し、金属管(112)の内部からフィラメント(103)の反対側に突き出て配置され、金属管(112)の複数の凹部(117)のそれぞれの底部と接触している柱状の六ホウ化物のチップ(104)と、を備えた電子源とする。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)