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1. (WO2018159006) 露光装置、基板処理装置、基板の露光方法および基板処理方法
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国際公開番号: WO/2018/159006 国際出願番号: PCT/JP2017/036258
国際公開日: 07.09.2018 国際出願日: 05.10.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 7/30 (2006.01) ,H01L 21/027 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
26
感光材料の処理;そのための装置
30
液体手段を用いる画像様除去
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
出願人:
株式会社SCREENホールディングス SCREEN HOLDINGS CO., LTD. [JP/JP]; 京都府京都市上京区堀川通寺之内上る4丁目天神北町1番地の1 Tenjinkita-machi 1-1, Teranouchi-agaru 4-chome, Horikawa-dori, Kamigyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6028585, JP
発明者:
松尾 友宏 MATSUO, Tomohiro; JP
福本 靖博 FUKUMOTO, Yasuhiro; JP
大木 孝文 OKI, Takafumi; JP
浅井 正也 ASAI, Masaya; JP
春本 将彦 HARUMOTO, Masahiko; JP
田中 裕二 TANAKA, Yuji; JP
中山 知佐世 NAKAYAMA, Chisayo; JP
金山 幸司 KANEYAMA, Koji; JP
代理人:
福島 祥人 FUKUSHIMA, Yoshito; JP
優先権情報:
2017-03823701.03.2017JP
発明の名称: (EN) EXPOSURE DEVICE, SUBSTRATE TREATMENT DEVICE, SUBSTRATE EXPOSURE METHOD, AND SUBSTRATE TREATMENT METHOD
(FR) DISPOSITIF D'EXPOSITION, DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ D'EXPOSITION DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) 露光装置、基板処理装置、基板の露光方法および基板処理方法
要約:
(EN) The operation mode of an exposure device (100) is switched between exposure mode and maintenance mode. In the exposure mode, the atmosphere in a housing (121) is released from a suction device (173) so that the oxygen concentration in the housing becomes exposure concentration that is lower than the oxygen concentration in the atmospheric air. In such state, a substrate (W) in the housing is exposed by being irradiated with vacuum ultraviolet rays applied from a light source unit (163). In the maintenance mode, in a state wherein the oxygen concentration in the housing is higher than that in the exposure mode, ozone is generated by applying vacuum ultraviolet rays to the atmosphere in the housing from the light source unit.
(FR) Le mode de fonctionnement d'un dispositif d'exposition (100) est commutable entre un mode d'exposition et un mode d'entretien. Dans le mode d'exposition, l'atmosphère dans un boîtier (121) est produite par un dispositif d'aspiration (173), de sorte que la concentration en oxygène dans le boîtier devient une concentration d'exposition, laquelle est inférieure à la concentration en oxygène de l'air atmosphérique. Dans un tel état, un substrat (W) se situant dans le boîtier est exposé par l'exposition à des rayons ultraviolets sous vide appliqués à partir d'une unité source lumineuse (163). Dans le mode d'entretien, dans un état dans lequel la concentration en oxygène dans le boîtier est supérieure à celle du mode d'exposition, de l'ozone est généré par l'application de rayons ultraviolets sous vide à l'atmosphère du boîtier provenant de l'unité source lumineuse.
(JA) 露光装置(100)の動作モードが露光モードと保守モードとで切り替えられる。露光モードにおいては、筐体(121)内の酸素濃度が大気中の酸素濃度よりも低い露光濃度になるように筐体内の雰囲気が吸引装置(173)から排気される。この状態で、光源部(163)から筐体内の基板(W)に真空紫外線が照射されることにより基板が露光される。保守モードにおいては、筐体内の酸素濃度が露光モードにおける酸素濃度よりも高い状態で、光源部から筐体内の雰囲気に真空紫外線が照射されることによりオゾンが発生される。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)