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1. (WO2018155540) 電子ビーム装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法

Pub. No.:    WO/2018/155540    International Application No.:    PCT/JP2018/006400
Publication Date: Fri Aug 31 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Fri Feb 23 00:59:59 CET 2018
IPC: H01L 21/027
G03F 7/20
H01J 37/305
Applicants: NIKON CORPORATION
株式会社ニコン
Inventors: SATO, Shinji
佐藤 真路
Title: 電子ビーム装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
Abstract:
電子ビーム装置は、複数の光ビームを光電素子(136)に照射する光学系(80)と、光電素子の光電変換層から放出される電子を複数の電子ビームとしてウエハ(W)に照射する電子ビーム光学系(70)と、を備え、光電素子は、光学系からの光の光路上に配置され、入射面側に複数のアパーチャが形成され、該複数のアパーチャを通過した複数のビームが照射される光電層を有し、複数のアパーチャの少なくとも1つの形状は、アパーチャを通過した光ビームが光電変換層に入射することによって生成される電子ビームの、ウエハ上での照射領域の形状と異なる。