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1. (WO2018155539) 電子ビーム装置及びデバイス製造方法、並びに光電素子保持容器
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国際公開番号: WO/2018/155539 国際出願番号: PCT/JP2018/006397
国際公開日: 30.08.2018 国際出願日: 22.02.2018
IPC:
H01J 37/073 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,H01J 37/305 (2006.01) ,H01L 21/027 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
37
放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
02
細部
04
電極装置および放電を発生しまたは制御するための関連部品,例.電子光学装置,イオン光学装置
06
電子源;電子銃
073
電界放出,光電子放出,または2次電子放出による電子源を用いる電子銃
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
37
放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
30
物体の局所的な処理のための電子ビームまたはイオンビーム管
305
鋳造する,溶かす,脱水するまたはエッチングするためのもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
出願人:
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
発明者:
佐藤 真路 SATO, Shinji; JP
代理人:
立石 篤司 TATEISHI, Atsuji; JP
優先権情報:
2017-03419624.02.2017JP
発明の名称: (EN) ELECTRON BEAM APPARATUS AND DEVICE PRODUCTION METHOD, AND PHOTOELECTRIC ELEMENT HOLDING CONTAINER
(FR) APPAREIL À FAISCEAU D'ÉLECTRONS ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF, ET RÉCIPIENT DE MAINTIEN D'ÉLÉMENT PHOTOÉLECTRIQUE
(JA) 電子ビーム装置及びデバイス製造方法、並びに光電素子保持容器
要約:
(EN) This electron beam apparatus comprises a projection optical system which directs a plurality of light beams onto a photoelectric element (54), an electron beam optical system (70) which irradiates a wafer (W) with, as a plurality of electron beams, electrons discharged from the photoelectric element, a lid storage plate (68) which supports a lid member (64) released from a main body (52) having the electron discharge surface of the photoelectric element positioned in an internal space thereof, and an actuator (66) for moving the lid storage plate. The lid member (64) can be fitted in a releasable manner to the main body so as to close the opening in the main body, and when the lid member is released from the main body and the lid member supported by the lid storage plate is moved to a retreat position, electrons discharged from the electron discharge surface can move towards the electron beam optical system after passing through the opening in the main body.
(FR) La présente invention concerne un appareil à faisceau d'électrons comprenant un système optique de projection qui dirige une pluralité de faisceaux lumineux sur un élément photoélectrique (54), un système optique à faisceau d'électrons (70) qui irradie une tranche (W) avec, en tant que pluralité de faisceaux d'électrons, des électrons déchargés à partir de l'élément photoélectrique, une plaque de stockage de couvercle (68) qui supporte un élément de couvercle (64) libéré d'un corps principal (52) ayant la surface de décharge d'électrons de l'élément photoélectrique positionnée dans un espace interne de celui-ci, et un actionneur (66) pour déplacer la plaque de stockage de couvercle. L'élément de couvercle (64) peut être ajusté de manière libérable au corps principal de façon à fermer l'ouverture dans le corps principal, et lorsque l'élément de couvercle est libéré du corps principal et que l'élément de couvercle supporté par la plaque de stockage de couvercle est déplacé vers une position de retrait, des électrons déchargés à partir de la surface de décharge d'électrons peuvent se déplacer vers le système optique de faisceau d'électrons après avoir traversé l'ouverture dans le corps principal.
(JA) 電子ビーム装置は、複数の光ビームを光電素子(54)に照射する投影光学系と、光電素子から放出される電子を複数の電子ビームとしてウエハ(W)に照射する電子ビーム光学系(70)と、光電素子の電子放出面が内部空間に配置された本体部(52)からリリースされた蓋部材(64)を支持する蓋収納プレート(68)と、蓋収納プレートを移動するためのアクチュエータ(66)と、を備え、蓋部材(64)は、本体部の開口を閉じるように本体部にリリース可能に装着可能であり、本体部から蓋部材がリリースされ、蓋収納プレートに支持された蓋部材が待避位置に移動されると、電子放出面から放出された電子が本体部の開口を介して電子ビーム光学系に向かって移動可能である。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)