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1. (WO2018155465) 精製過酸化水素水溶液の製造方法および製造システム
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国際公開番号: WO/2018/155465 国際出願番号: PCT/JP2018/006097
国際公開日: 30.08.2018 国際出願日: 21.02.2018
IPC:
C01B 15/013 (2006.01) ,B01D 1/00 (2006.01) ,B01D 3/14 (2006.01) ,B01J 39/04 (2017.01) ,B01J 41/04 (2017.01) ,B01J 47/04 (2006.01)
C 化学;冶金
01
無機化学
B
非金属元素;その化合物
15
過酸化物;過酸化水素化物;ペルオキシ酸またはその塩;超酸化物;オゾニド
01
過酸化水素
013
分離;精製;濃縮
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
1
蒸発
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
3
蒸留またはそれに関連する液体がガス状媒質と接触するプロセス,例.ストリッピング
14
分留
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
J
化学的または物理的方法,例.触媒,コロイド化学;それらの関連装置
39
陽イオン交換;陽イオン交換体としての物質の使用;陽イオン交換特性を改良するための物質の処理
04
有機交換体を用いるプロセス
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
J
化学的または物理的方法,例.触媒,コロイド化学;それらの関連装置
41
陰イオン交換;陰イオン交換体としての物質の使用;陰イオン交換特性を改良するための物質の処理
04
有機交換体を用いるプロセス
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
J
化学的または物理的方法,例.触媒,コロイド化学;それらの関連装置
47
イオン交換プロセス一般;そのための装置
02
塔式または床式プロセス
04
混床式プロセス
出願人:
三菱瓦斯化学株式会社 MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内二丁目5番2号 5-2, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008324, JP
発明者:
茂田 耕平 SHIGETA Kohei; JP
櫛田 泰宏 KUSHIDA Yasuhiro; JP
山本 哲也 YAMAMOTO Tetsuya; JP
松浦 慎一郎 MATSUURA Shinichiro; JP
池田 英俊 IKEDA Hidetoshi; JP
代理人:
特許業務法人 津国 TSUKUNI & ASSOCIATES; 東京都千代田区麹町5-3-1 麹町ビジネスセンター Kojimachi Business Center, 5-3-1, Kojimachi, Chiyoda-ku, Tokyo 1020083, JP
山村 大介 YAMAMURA Daisuke; JP
優先権情報:
2017-03097622.02.2017JP
発明の名称: (EN) METHOD AND SYSTEM FOR PRODUCING PURIFIED AQUEOUS HYDROGEN PEROXIDE SOLUTION
(FR) PROCÉDÉ ET SYSTÈME DE PRODUCTION D'UNE SOLUTION AQUEUSE PURIFIÉE DE PEROXYDE D'HYDROGÈNE
(JA) 精製過酸化水素水溶液の製造方法および製造システム
要約:
(EN) Provided are a method and system for efficiently producing a purified aqueous hydrogen peroxide solution having a high purity. This method for producing a purified aqueous hydrogen peroxide solution comprises: step A for vaporizing a raw material containing a crude aqueous hydrogen peroxide solution; step B for condensing at least a portion of the gas and liquid obtained in step A, and separating the gas and liquid into a gas phase and a liquid phase; and step C for returning, into the raw material, at least a portion of a separation liquid which is the separated liquid phase, wherein step C further includes step D for adjusting the concentration of hydrogen peroxide in the separation liquid.
(FR) L'invention concerne un procédé et un système de production efficace d'une solution aqueuse purifiée de peroxyde d'hydrogène ayant une pureté élevée. Le procédé de production d'une solution aqueuse purifiée de peroxyde d'hydrogène selon l'invention comprend : une étape A de vaporisation d'une matière première contenant une solution aqueuse de peroxyde d'hydrogène brut ; une étape B de condensation d'au moins une partie du gaz et du liquide obtenus à l'étape A, et de séparation du gaz et du liquide en une phase gazeuse et une phase liquide ; et une étape C de recyclage, dans la matière première, d'au moins une partie d'un liquide de séparation qui est la phase liquide séparée, où l'étape C comprend en outre une étape D d'ajustement de la concentration du peroxyde d'hydrogène dans le liquide de séparation.
(JA) 高純度の精製過酸化水素水溶液を効率よく製造する方法およびシステムを提供すること。 粗過酸化水素水溶液を含む原料を気化する工程Aと、工程Aで得た気液の少なくとも一部を凝縮して気相と液相とに分離する工程Bと、分離した液相である分離液の少なくとも一部を原料に戻す工程Cとを含む精製過酸化水素水溶液の製造方法であって、前記工程Cが、前記分離液中の過酸化水素濃度を調整する工程Dを更に含む。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)