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1. (WO2018155440) 樹脂膜の形成方法およびマスク
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国際公開番号: WO/2018/155440 国際出願番号: PCT/JP2018/006003
国際公開日: 30.08.2018 国際出願日: 20.02.2018
IPC:
C23C 14/12 (2006.01) ,B05D 1/32 (2006.01) ,C23C 14/04 (2006.01) ,C23C 14/58 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/04 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
06
被覆材料に特徴のあるもの
12
有機質材料
B 処理操作;運輸
05
霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
D
液体または他の流動性材料を表面に適用する方法一般
1
液体または他の流動性材料を適用する方法
32
表面のある部分を被覆されないように保護する手段を用いるもの,例.ステンシル,レジストを用いるもの
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
04
選択された表面部分の被覆,例.マスクを用いるもの
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
58
後処理
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
50
光放出に特に適用されるもの,例.有機発光ダイオード(OLED)または高分子発光ダイオード(PLED)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
02
細部
04
封止装置
出願人:
株式会社アルバック ULVAC, INC. [JP/JP]; 神奈川県茅ケ崎市萩園2500 2500, Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543, JP
発明者:
青代 信 AODAI Makoto; JP
清 健介 SEI Kensuke; JP
高橋 明久 TAKAHASHI Hirohisa; JP
代理人:
及川 周 OIKAWA Shu; JP
勝俣 智夫 KATSUMATA Tomoo; JP
土屋 亮 TSUCHIYA Ryo; JP
優先権情報:
2017-03032021.02.2017JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR FILMING RESIN FILM, AND MASK
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM DE RÉSINE, ET MASQUE
(JA) 樹脂膜の形成方法およびマスク
要約:
(EN) This method for forming a patterned resin film on a substrate involves, in order, at least: a first step in which a mask is used having a mask main body structured such that a flexible support part and an adhesive part overlap, and the mask is disposed such that the adhesive part contacts the substrate; a second step in which a gasified resin material is supplied to the substrate through an opening provided in the mask main body and is condensed on the substrate, and, after formation of the liquid resin material film on the substrate, the resin material film and the mask are irradiated with UV light; and a third step in which the mask is separated from the substrate.
(FR) La présente invention concerne un procédé de formation d’un film de résine à motifs sur un substrat qui met en œuvre, dans l’ordre, au moins : une première étape dans laquelle un masque est utilisé comportant un corps principal de masque structuré de sorte qu’une partie de support flexible et une partie adhésive se chevauchent, et le masque est disposé de sorte que la partie adhésive vienne en contact avec le substrat ; une deuxième étape dans laquelle un matériau de résine gazéifié est fourni au substrat par l’intermédiaire d’une ouverture disposée dans le corps principal de masque et est condensé sur le substrat, et, après la formation du film de matériau de résine liquide sur le substrat, le film de matériau de résine et le masque sont irradiés avec une lumière UV ; et une troisième étape dans laquelle le masque est séparé du substrat.
(JA) 本発明の樹脂膜の形成方法は、基板上にパターニングされた樹脂膜を形成する方法であって、マスク本体が可撓性の支持部と接着部とが重なった構造を有するマスクを用い、前記基板に対して前記接着部が接するように前記マスクを設ける第1工程と、前記マスク本体に設けた開口部を通して前記基板に気化した樹脂材料を供給し該基板上で凝縮させ、該基板上に液状の樹脂材料膜を形成した後、該樹脂材料膜と前記マスクにUV光を照射する第2工程と、前記基板から前記マスクを剥離する第3工程と、を少なくとも順に備える。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)