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1. (WO2018155300) 自動分析装置および自動分析装置における洗浄機構
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国際公開番号: WO/2018/155300 国際出願番号: PCT/JP2018/005243
国際公開日: 30.08.2018 国際出願日: 15.02.2018
予備審査請求日: 13.06.2018
IPC:
G01N 35/02 (2006.01)
G 物理学
01
測定;試験
N
材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
35
グループ1/00から33/00のいずれか1つに分類される方法または材料に限定されない自動分析;そのための材料の取扱い
02
1以上の処理位置または分析位置へコンベア系によって移動させられる多数の試料容器を用いるもの
出願人:
株式会社 日立ハイテクノロジーズ HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西新橋一丁目24番14号 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717, JP
発明者:
塩谷 圭 SHIOYA Kei; JP
飯島 昌彦 IIJIMA Masahiko; JP
代理人:
岩崎 重美 IWASAKI Shigemi; JP
優先権情報:
2017-03061222.02.2017JP
発明の名称: (EN) AUTOMATIC ANALYSIS DEVICE AND CLEANING MECHANISM IN AUTOMATIC ANALYSIS DEVICE
(FR) DISPOSITIF D'ANALYSE AUTOMATIQUE ET MÉCANISME DE NETTOYAGE DANS UN DISPOSITIF D'ANALYSE AUTOMATIQUE
(JA) 自動分析装置および自動分析装置における洗浄機構
要約:
(EN) There was a possibility that, due to contact by a cleaning tip for sucking up a cleaning liquid for the next analysis when the inside of a repeatedly used reaction container is cleaned, the inner wall of the reaction container was damaged and thereby an analysis result was affected. Provided are a device and a cleaning mechanism for a reaction container in the device that are characterized by being provided with: a reaction disk for holding a reaction container; a sample dispensing mechanism for dispensing a sample to the reaction container; a reagent dispensing mechanism for dispensing a reagent to the reaction container; an optical system comprising a light source for applying light to a mixture of the sample and the reagent dispensed to the reaction container, and a detector for detecting the light applied from the light source; and a cleaning mechanism for cleaning the reaction container, wherein the cleaning mechanism is provided with a cleaning liquid supply nozzle for supplying a cleaning liquid to the reaction container after an analysis, a cleaning liquid suction nozzle for suctioning the supplied cleaning liquid, and a cleaning tip provided on the lower end of the cleaning liquid suction nozzle, and the side surface of the cleaning tip is formed such that the width of the cleaning tip becomes smaller downward, in the state where the cleaning tip is inserted into the reaction container, in at least a surface opposing the light source and a surface opposing the detector, and in a range that overlaps with a photometric range in which light applied to the reaction container from the light source passes through the reaction container toward the detector or in a range that is larger than the photometric range.
(FR) Il existe une possibilité que, en raison du contact par une pointe de nettoyage pour aspirer un liquide de nettoyage pour l'analyse suivante lorsque l'intérieur d'un récipient de réaction utilisé de façon répétée est nettoyé, la paroi interne du récipient de réaction soit endommagée et, par conséquent, un résultat d'analyse soit affecté. La présente invention concerne un dispositif et un mécanisme de nettoyage pour un récipient de réaction dans le dispositif qui sont caractérisés en ce qu'ils sont pourvus de : un disque de réaction pour contenir un récipient de réaction; un mécanisme de distribution d'échantillon pour distribuer un échantillon dans le récipient de réaction; un mécanisme de distribution de réactif pour distribuer un réactif dans le récipient de réaction; un système optique comprenant une source de lumière pour appliquer une lumière à un mélange de l'échantillon et du réactif distribués dans le récipient de réaction, et un détecteur pour détecter la lumière appliquée depuis la source de lumière; et un mécanisme de nettoyage pour nettoyer le récipient de réaction, le mécanisme de nettoyage étant pourvu d'une buse de distribution de liquide de nettoyage pour distribuer un liquide de nettoyage dans le récipient de réaction après une analyse, une buse d'aspiration de liquide de nettoyage pour aspirer le liquide de nettoyage distribué, et une pointe de nettoyage disposée sur l'extrémité inférieure de la buse d'aspiration de liquide de nettoyage, et la surface latérale de la pointe de nettoyage est formée de sorte que la largeur de la pointe de nettoyage devienne plus petite vers le bas, dans l'état dans lequel la pointe de nettoyage est insérée dans le récipient de réaction, dans au moins une surface opposée à la source de lumière et une surface opposée au détecteur, et dans une plage qui chevauche une plage photométrique dans laquelle la lumière appliquée au récipient de réaction depuis la source de lumière traverse le récipient de réaction vers le détecteur ou dans une plage qui est plus grande que la plage photométrique.
(JA) 繰り返し使用する反応容器内を洗浄する際に、次の分析のために洗浄液を吸いきるための洗浄チップの接触によって、反応容器の内壁を傷つけることで、分析結果に影響を与えてしまうおそれがあった。 反応容器を保持する反応ディスクと、前記反応容器に試料を分注する試料分注機構と、前記反応容器に試薬を分注する試薬分注機構と、当該反応容器に分注された試料と試薬との混合液に光を照射する光源と、当該光源から照射された光を検出する検出器と、からなる光学系と、当該反応容器を洗浄する洗浄機構と、を備え、前記洗浄機構は、当該分析後の反応容器に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズルと、当該供給された洗浄液を吸引する洗浄液吸引ノズルと、前記洗浄液吸引ノズルの下端に設けられた洗浄チップと、を備え、前記洗浄チップの側面は、前記洗浄チップが前記反応容器に挿入されている状態において、少なくとも前記光源と対向する面および前記検出器と対向する面における、前記光源から前記反応容器に照射された光が前記検出器に向かって前記反応容器を通過する範囲である測光範囲と重複する範囲、あるいは当該測光範囲よりも大きい範囲において、下方にいくほど幅が小さくなるように形成されることを特徴とする装置および当該装置における反応容器の洗浄機構を提供する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)