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1. (WO2018155188) 感光性樹脂組成物
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国際公開番号: WO/2018/155188 国際出願番号: PCT/JP2018/004246
国際公開日: 30.08.2018 国際出願日: 07.02.2018
IPC:
G03F 7/023 (2006.01) ,C08F 12/24 (2006.01) ,C08F 20/10 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/22 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
022
キノンジアジド
023
高分子キノンジアジド;高分子添加剤,例.結合剤
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
12
ただ1つの炭素-炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,その少なくとも1つが芳香族炭素環によって停止されている化合物の単独重合体または共重合体
02
1個の不飽和脂肪族基を含有する単量体
04
1個の環を含有するもの
14
異種原子または異種原子含有基で置換されたもの
22
酸素
24
フェノールまたはアルコール
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
20
ただ1つの炭素-炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物,その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの単独重合体または共重合体
02
9個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体
10
エステル
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
50
光放出に特に適用されるもの,例.有機発光ダイオード(OLED)または高分子発光ダイオード(PLED)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
12
実質的に2次元放射面をもつ光源
22
補助的な誘電体または反射層の配置あるいは化学的または物理的組成によって特徴づけられたもの
出願人:
日本ゼオン株式会社 ZEON CORPORATION [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目6番2号 6-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1008246, JP
発明者:
櫻井 隆覚 SAKURAI Takaaki; JP
代理人:
杉村 憲司 SUGIMURA Kenji; JP
優先権情報:
2017-03013821.02.2017JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE
(JA) 感光性樹脂組成物
要約:
(EN) Provided is a photosensitive resin composition which is capable of forming a positive resist film that has excellent thermal shape retainability. A photosensitive resin composition according to the present invention contains a polymer that has a monomer unit represented by general formula (I) and a polyamide-imide. (In general formula (I), R1 represents a chemical single bond or an optionally substituted divalent hydrocarbon group having 1-6 carbon atoms; and R2 represents a hydrogen atom or an optionally substituted monovalent hydrocarbon group having 1-6 carbon atoms.)
(FR) L'invention concerne une composition de résine photosensible qui est apte à former un film de réserve positive qui a une excellente conservation de la forme à la chaleur. Une composition de résine photosensible selon la présente invention contient un polymère qui comprend une unité monomère représentée par la formule générale (I) et un polyamide-imide. (Dans la formule générale (I), R1 représente une liaison chimique simple ou un groupe hydrocarboné divalent facultativement substitué ayant de 1 à 6 atomes de carbone ; et R2 représente un atome d'hydrogène ou un groupe hydrocarboné monovalent facultativement substitué ayant de 1 à 6 atomes de carbone.)
(JA) 耐熱形状保持性に優れたポジ型レジスト膜を形成することができる感光性樹脂組成物の提供。本発明の感光性樹脂組成物は、下記一般式(I)で表される単量体単位を有する重合体と、ポリアミドイミドとを含む。 (一般式(I)中、Rは、化学的な単結合、または置換基を有していてもよい炭素数1~6の2価の炭化水素基であり、Rは、水素原子、または置換基を有していてもよい炭素数1~6の1価の炭化水素基である。)
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)