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1. (WO2018155077) スピン流磁化回転素子、磁気抵抗効果素子及び磁気メモリ
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国際公開番号: WO/2018/155077 国際出願番号: PCT/JP2018/002466
国際公開日: 30.08.2018 国際出願日: 26.01.2018
IPC:
H01L 29/82 (2006.01) ,H01L 21/8239 (2006.01) ,H01L 27/105 (2006.01) ,H01L 43/08 (2006.01) ,H01L 43/10 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
29
整流,増幅,発振またはスイッチングに特に適用される半導体装置であり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合空乏層またはキャリア集中層,を有するコンデンサーまたは抵抗器;半導体本体または電極の細部整流,増幅,発振またはスイッチングに特に適用される半導体装置であり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合空乏層またはキャリア集中層,を有するコンデンサーまたは抵抗器;半導体本体または電極の細部(31/00~47/00,51/05が優先;半導体本体または電極以外の細部23/00;1つの共通基板内または上に形成された複数の固体構成部品からなる装置27/00
66
半導体装置の型
82
装置に印加される磁界の変化によって制御可能なもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
70
1つの共通基板内または上に形成された複数の固体構成部品または集積回路からなる装置またはその特定部品の製造または処理;集積回路装置またはその特定部品の製造
77
1つの共通基板内または上に形成される複数の固体構成部品または集積回路からなる装置の製造または処理
78
複数の別個の装置に基板を分割することによるもの
82
それぞれが複数の構成部品からなる装置,例.集積回路の製造
822
基板がシリコン技術を用いる半導体であるもの
8232
電界効果技術
8234
MIS技術
8239
メモリ構造
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
27
1つの共通基板内または上に形成された複数の半導体構成部品または他の固体構成部品からなる装置
02
整流,発振,増幅またはスイッチングに特に適用される半導体構成部品を含むものであり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有する集積化された受動回路素子を含むもの
04
基板が半導体本体であるもの
10
複数の個々の構成部品を反復した形で含むもの
105
電界効果構成部品を含むもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
43
電流磁気効果またはこれに類似な磁気効果を利用した装置;それらの装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
08
磁界制御抵抗
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
43
電流磁気効果またはこれに類似な磁気効果を利用した装置;それらの装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
10
材料の選択
出願人:
TDK株式会社 TDK CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区芝浦三丁目9番1号 3-9-1, Shibaura, Minato-ku, Tokyo 1080023, JP
発明者:
塩川 陽平 SHIOKAWA Yohei; JP
佐々木 智生 SASAKI Tomoyuki; JP
代理人:
棚井 澄雄 TANAI Sumio; JP
荒 則彦 ARA Norihiko; JP
飯田 雅人 IIDA Masato; JP
荻野 彰広 OGINO Akihiro; JP
優先権情報:
2017-03475827.02.2017JP
発明の名称: (EN) SPIN CURRENT MAGNETIZATION ROTATING ELEMENT, MAGNETORESISTIVE EFFECT ELEMENT AND MAGNETIC MEMORY
(FR) ÉLÉMENT ROTATIF DE MAGNÉTISATION DE COURANT DE SPIN, ÉLÉMENT À EFFET MAGNÉTORÉSISTIF ET MÉMOIRE MAGNÉTIQUE
(JA) スピン流磁化回転素子、磁気抵抗効果素子及び磁気メモリ
要約:
(EN) This spin current magnetization rotating element is provided with a first ferromagnetic metal layer and spin-orbit torque wiring. The spin-orbit torque wiring has a laminated structure comprising alternating spin conducting layers and interface spin generating layers, the number of interface spin generating layers is greater than or equal to 2, and in the spin-orbit torque wiring, one of the interface spin generating layers is closest to the first ferromagnetic metal layer.
(FR) L'invention concerne un élément rotatif de magnétisation de courant de spin comprenant une première couche métallique ferromagnétique et un câblage de couple spin-orbite. Le câblage de couple spin-orbite a une structure stratifiée comprenant des couches conductrices de spin alternées et des couches de génération de spin d'interface, le nombre de couches de génération de spin d'interface est supérieur ou égal à 2, et dans le câblage de couple spin-orbite, l'une des couches de génération de spin d'interface est la plus proche de la première couche métallique ferromagnétique.
(JA) 本発明のスピン流磁化回転素子は、第1強磁性金属層と、スピン軌道トルク配線と、を備え、前記スピン軌道トルク配線は、スピン伝導層と界面スピン生成層が交互に積層された構造であり、前記界面スピン生成層の数は2層以上であり、前記スピン軌道トルク配線において、前記界面スピン生成層のうち一つが前記第1強磁性金属層に最近接する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)