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1. (WO2018154950) 弾性波装置、高周波フロントエンド回路及び通信装置
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国際公開番号: WO/2018/154950 国際出願番号: PCT/JP2017/045987
国際公開日: 30.08.2018 国際出願日: 21.12.2017
IPC:
H03H 9/25 (2006.01)
H 電気
03
基本電子回路
H
インビーダンス回路網,例.共振回路;共振器
9
電気機械的または電気音響的素子を含む回路網;電気機械的共振器
25
弾性表面波を使用する共振器の構造上の特徴
出願人:
株式会社村田製作所 MURATA MANUFACTURING CO., LTD. [JP/JP]; 京都府長岡京市東神足1丁目10番1号 10-1, Higashikotari 1-chome, Nagaokakyo-shi, Kyoto 6178555, JP
発明者:
岸本 諭卓 KISHIMOTO, Yutaka; JP
大村 正志 OMURA, Masashi; JP
奥永 洋夢 OKUNAGA, Hiromu; JP
代理人:
特許業務法人 宮▲崎▼・目次特許事務所 MIYAZAKI & METSUGI; 大阪府大阪市中央区常盤町1丁目3番8号 中央大通FNビル Chuo Odori FN Bldg., 3-8, Tokiwamachi 1-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5400028, JP
優先権情報:
2017-02984021.02.2017JP
発明の名称: (EN) ELASTIC WAVE DEVICE, HIGH-FREQUENCY FRONT END CIRCUIT, AND COMMUNICATION DEVICE
(FR) DISPOSITIF À ONDES ÉLASTIQUES, CIRCUIT FRONTAL HAUTE FRÉQUENCE ET DISPOSITIF DE COMMUNICATION
(JA) 弾性波装置、高周波フロントエンド回路及び通信装置
要約:
(EN) In order to provide an elastic wave device capable of effectively suppressing unnecessary waves, an elastic wave device 1 is equipped with a support substrate 2, an acoustic reflection film 3 provided on the support substrate 2, a piezoelectric thin-film 4 (piezoelectric body) provided on the acoustic reflection film 3, and an IDT electrode 5 provided on the piezoelectric thin-film 4. The acoustic reflection film 3 is a layered body configured from a plurality of acoustic impedance layers which include first, second, third and fourth low-acoustic impedance layers 3a, 3c, 3e, 3g and first, second and third high-acoustic impedance layers 3b, 3d, 3f. The acoustic reflection film 3 has a first acoustic impedance layer, which is one of the plurality of acoustic impedance layers, and also has a second acoustic impedance layer, which is one of the plurality of acoustic impedance layers and exhibits a different arithmetic average roughness (Ra) than does the first acoustic impedance layer.
(FR) Cette invention concerne un dispositif à ondes élastiques capable de supprimer efficacement les ondes superflues. Un dispositif à ondes élastiques (1) selon l'invention est équipé d'un substrat de support (2), d'un film de réflexion acoustique (3) disposé sur le substrat de support (2), d'un film mince piézoélectrique (4) (corps piézoélectrique) disposé sur le film de réflexion acoustique (3), et d'une électrode IDT (5) disposée sur le film mince piézoélectrique (4). Le film de réflexion acoustique (3) est un corps stratifié configuré à partir d'une pluralité de couches à impédance acoustique qui comprennent des première, deuxième, troisième et quatrième couches à impédance acoustique basse (3a, 3c, 3e, 3g) et des première, deuxième et troisième couches à impédance acoustique élevée (3b, 3d, 3f). Le film de réflexion acoustique (3) comprend une première couche à impédance acoustique, qui est l'une de la pluralité de couches à impédance acoustique, et il comprend également une seconde couche à impédance acoustique, qui est l'une de la pluralité de couches à impédance acoustique et présente une rugosité moyenne arithmétique (Ra) différente de celle de la première couche à impédance acoustique.
(JA) 不要波を効果的に抑制することができる、弾性波装置を提供する 弾性波装置1は支持基板2と、支持基板2上に設けられた音響反射膜3と、音響反射膜3上に設けられた圧電薄膜4(圧電体)と、圧電薄膜4上に設けられているIDT電極5とを備える。音響反射膜3は、第1,第2,第3,第4の低音響インピーダンス層3a,3c,3e,3gと、第1,第2,第3の高音響インピーダンス層3b,3d,3fとを含む複数の音響インピーダンス層で構成された積層体である。音響反射膜3は、複数の音響インピーダンス層のうちの1の音響インピーダンス層である第1の音響インピーダンス層と、複数の音響インピーダンス層のうちの1の音響インピーダンス層であり、かつ第1の音響インピーダンス層と算術平均粗さ(Ra)が異なる第2の音響インピーダンス層とを有する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)