国際・国内特許データベース検索

1. (WO2018154771) レーザ装置、及びEUV光生成システム

Pub. No.:    WO/2018/154771    International Application No.:    PCT/JP2017/007436
Publication Date: Fri Aug 31 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Tue Feb 28 00:59:59 CET 2017
IPC: H01S 3/10
Applicants: GIGAPHOTON INC.
ギガフォトン株式会社
Inventors: KAWASUJI, Yasufumi
川筋 康文
Title: レーザ装置、及びEUV光生成システム
Abstract:
本開示によるレーザ装置は、レーザ光を出射するマスタオシレータと、レーザ光の光路上に配置されたレーザ増幅器と、レーザ増幅器とEUV光が生成されるEUVチャンバ内に供給されたターゲットとの間の光路上に配置された伝搬光学系と、レーザ増幅器と伝搬光学系との間の光路上に配置された偏光アイソレータとを備え、偏光アイソレータは、入射したレーザ光から所定の偏光方向の直線偏光のレーザ光を選択して出射する偏光子と、偏光子と伝搬光学系との間の光路上に、所定の偏光方向の直線偏光のレーザ光を、反射により、伝搬光学系で発生するリタデーションを緩和するリタデーションを持つ楕円偏光のレーザ光に変換するように配置された反射リターダとを含む。