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1. (WO2018154758) スキンケア装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/154758 国際出願番号: PCT/JP2017/007371
国際公開日: 30.08.2018 国際出願日: 27.02.2017
IPC:
A61N 5/06 (2006.01)
A 生活必需品
61
医学または獣医学;衛生学
N
電気治療;磁気治療;放射線治療;超音波治療
5
放射線治療
06
光線を使うもの
出願人: PAN Shaohui[CN/CN]; CN
DAI Kejia[CN/JP]; JP
MURATA Oki[JP/JP]; JP
発明者: PAN Shaohui; CN
DAI Kejia; JP
MURATA Oki; JP
代理人: MATSUO Kenichiro; JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) SKIN CARE DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE SOINS DE LA PEAU
(JA) スキンケア装置
要約:
(EN) The purpose of the invention is to provide a skin care device for performing cosmetic treatment such as depilation and beauty treatment, configured particularly such that the wavelength of an SLD light source using SLED chips is set to the most functional wavelength appropriate for a person to receive care treatment, with the module containing the semiconductor chip substrate being configured so as to be able to efficiently provide a heat dissipating function so that the skincare function by the specific wavelength of the SLD light source can be maximized. The present invention provides a skin care device which is provided with a care light irradiation body formed by an SLD chip, a support base formed from a multilayer metal layer including a metal (Au) layer that supports the SLD chip thereon, and a heat sink which is disposed below the support base as a cooling portion, wherein the main wavelength of the SLD chip is approximately 808 nm, and an inlet hole and an outlet hole through which circulating water for cooling passes are provided in the heat sink so that a mechanism for cooling the care light irradiation body by a water cooling scheme is provided.
(FR) L'objet de l'invention est de fournir un dispositif de soins de la peau permettant d’effectuer un traitement cosmétique tel qu'une épilation et un traitement esthétique, configuré en particulier de telle sorte que la longueur d'onde d'une source lumineuse SLD (diode super-luminescente) utilisant des puces SLED est réglée à la longueur d'onde la plus fonctionnelle appropriée pour une personne pour recevoir un traitement de soins, le module contenant le substrat de puce semi-conductrice étant configuré de façon à pouvoir fournir efficacement une fonction de dissipation de chaleur de telle sorte que la fonction de soins de la peau par la longueur d'onde spécifique de la source lumineuse SLD peut être maximisée. La présente invention concerne un dispositif de soins de la peau qui est pourvu d'un corps d'irradiation de lumière de soins formé par une puce SLD, d'une base de support formée à partir d'une couche métallique multicouche comprenant une couche de métal (Au) qui supporte la puce SLD sur celle-ci, et d’un dissipateur thermique qui est disposé au-dessous de la base de support en tant que partie de refroidissement, la longueur d'onde principale de la puce SLD étant d'environ 808 nm, et un trou d'entrée et un trou de sortie à travers lesquels l'eau est circule pour le refroidissement des passages étant prévus dans le dissipateur thermique de telle sorte qu'un mécanisme de refroidissement du corps d'irradiation de lumière de soins par un système de refroidissement par eau est prévu.
(JA) 脱毛、美顔その他の美容処理を行うスキンケア装置において、特にSLEDチップを用いたSLD光源の波長を最も機能的なケア対象に合う波長とし、半導体チップ基板を含むモジュールの構成を放熱機能を効率的に果たすことができるようにしてSLD光源からの特定波長によるスキンケア機能を最大限に発揮できるようにしたスキンケア装置を提供する。 本発明のスキンケア装置は、SLDチップと、前記SLDチップを載置支持する金(Au)層を含む多層金属層で形成された支持基盤と、前記支持基盤の下方に冷却部として配設されたヒートシンクと、により構成したケア光線照射体において、前記SLDチップの主波長を約808nmとし、前記ヒートシンクに冷却用の循環水が通過する導入孔と導出孔を設け水冷方式により前記ケア光線照射体を冷却する機構を有することとした。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)