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1. (WO2018151056) ペリクル、露光原版、露光装置、及び半導体装置の製造方法
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国際公開番号: WO/2018/151056 国際出願番号: PCT/JP2018/004726
国際公開日: 23.08.2018 国際出願日: 09.02.2018
IPC:
G03F 1/64 (2012.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
1
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造に用いる原稿,例.マスク,フォトマスク又はレチクル;そのためのマスクブランク又はペリクル;特にそれに適合した容器;その準備
62
ペリクル又はペリクル構造体,例.支持フレーム上に薄膜を備えるもの;その準備
64
そのフレームに特徴のあるもの,例.その構造又は材料
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
出願人:
三井化学株式会社 MITSUI CHEMICALS, INC. [JP/JP]; 東京都港区東新橋一丁目5番2号 5-2, Higashi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1057122, JP
発明者:
高村 一夫 KOHMURA Kazuo; JP
小野 陽介 ONO Yosuke; JP
大久保 敦 OKUBO Atsushi; JP
種市 大樹 TANEICHI Daiki; JP
石川 比佐子 ISHIKAWA Hisako; JP
美谷島 恒明 BIYAJIMA Tsuneaki; JP
代理人:
特許業務法人高橋・林アンドパートナーズ TAKAHASHI, HAYASHI AND PARTNER PATENT ATTORNEYS, INC.; 東京都大田区蒲田5-24-2 損保ジャパン日本興亜蒲田ビル9階 Sonpo Japan Nipponkoa Kamata Building 9F, 5-24-2 Kamata, Ota-ku, Tokyo 1440052, JP
優先権情報:
2017-02774217.02.2017JP
発明の名称: (EN) PELLICLE, EXPOSURE ORIGINAL PLATE, EXPOSURE DEVICE, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) PELLICULE, PLAQUE ORIGINALE D'EXPOSITION, DISPOSITIF D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF SEMI-CONDUCTEUR
(JA) ペリクル、露光原版、露光装置、及び半導体装置の製造方法
要約:
(EN) Provided are an EUV pellicle that has a high EUV transmittance and that causes less outgas and less contamination, and a method for manufacturing the EUV pellicle. A pellicle (100) is characterized by having: a pellicle film (101); a support frame (103); and a first adhesive layer (109) that is provided to an end opposed to the end of the support frame from which the pellicle film is suspended, wherein an inorganic substance layer (111) is formed on a lateral surface that is on a side where the pellicle film is suspended and is located in a direction intersecting a pellicle film surface in the first adhesive layer, and the mass absorption coefficient (µm) of the inorganic substance layer is within the range of 5×103-2×105 cm2/g.
(FR) L'invention concerne une pellicule EUV qui a une transmittance EUV élevée et qui provoque moins de dégagement gazeux et moins de contamination, et un procédé de fabrication de la pellicule EUV. Une pellicule (100) est caractérisée en ce qu'elle comprend : un film de pellicule (101); un cadre de support (103); et une première couche adhésive (109) qui est disposée à une extrémité opposée à l'extrémité du cadre de support à partir de laquelle le film de pellicule est suspendu, une couche de substance inorganique (111) étant formée sur une surface latérale qui est sur un côté où le film de pellicule est suspendu et située dans une direction croisant une surface de film de pellicule dans la première couche adhésive, et le coefficient d'absorption de masse (µm) de la couche de substance inorganique se situe dans la plage de 5×103-2×105 cm2/g.
(JA) EUV透過性が高く、アウトガスが少なく、コンタミネーションが少ない、EUV用ペリクル、及びその製造方法を提供する。ペリクル(100)は、ペリクル膜(101)と、支持枠(103)と、支持枠のペリクル膜が吊架された端部と反対側の端部に設けられた第1の接着層(109)と、を有し、第1の接着層においてペリクル膜面と交差する方向の側面であって、ペリクル膜が吊架される側の側面に、無機物層(111)を有し、前記無機物層の質量吸収係数(μm)が、5×103cm2/g~2×105 cm2/gの範囲であることを特徴とする。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)