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1. (WO2018150687) ポジ型平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法
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国際公開番号: WO/2018/150687 国際出願番号: PCT/JP2017/043489
国際公開日: 23.08.2018 国際出願日: 04.12.2017
IPC:
G03F 7/00 (2006.01) ,C08F 220/06 (2006.01) ,C08F 220/54 (2006.01) ,C08F 220/60 (2006.01) ,C08G 4/00 (2006.01) ,C08G 18/32 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/039 (2006.01) ,G03F 7/095 (2006.01) ,G03F 7/11 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
220
ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちのただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物.その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの共重合体
02
9個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体
04
酸;その金属塩またはアンモニウム塩
06
アクリル酸;メタクリル酸;それらの金属塩またはアンモニウム塩
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
220
ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちのただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物.その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの共重合体
02
9個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体
52
アミドまたはイミド
54
アミド
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
220
ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちのただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物.その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの共重合体
02
9個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体
52
アミドまたはイミド
54
アミド
60
カルボンアミド窒素以外に窒素を含有するもの
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
4
アルデヒドまたはケトンのポリアルコールとの重縮合体;環中に少くとも一回―O―C―O―基が現われるような複素環式酸素化合物の付加重合体
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
18
イソシアネートまたはイソチオシアネートの重合生成物
06
活性水素を有する化合物との
28
活性水素含有使用化合物に特徴のあるもの
30
低分子量化合物
32
ポリヒドロキシ化合物;ポリアミン;ヒドロキシアミン
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
039
光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
09
構造の細部,例.支持体,補助層,に特徴のあるもの
095
2つ以上の感光層をもつもの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
09
構造の細部,例.支持体,補助層,に特徴のあるもの
11
被覆層又は中間層,例.下塗層をもつもの
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
安原 祐一 YASUHARA, Yuichi; JP
野崎 敦靖 NOZAKI, Atsuyasu; JP
代理人:
特許業務法人太陽国際特許事務所 TAIYO, NAKAJIMA & KATO; 東京都新宿区新宿4丁目3番17号 3-17, Shinjuku 4-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022, JP
優先権情報:
2017-02833417.02.2017JP
発明の名称: (EN) POSITIVE LITHOGRAPHIC PRINTING ORIGINAL PLATE AND METHOD FOR PRODUCING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE
(FR) PLAQUE ORIGINALE D’IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE POSITIVE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D’UNE PLAQUE D’IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE
(JA) ポジ型平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法
要約:
(EN) A positive lithographic printing original plate which has, on a supporting body, an image recording layer that contains a polymer compound 1 having a linking group represented by formula A-1 in the main chain, a polymer compound 2-1 containing at least one of a constituent unit represented by formula S-1 and a constituent unit represented by formula S-2 or a polymer compound 2-2 containing a constituent unit represented by formula EV-1 and a constituent unit represented by formula EV-2, and an infrared absorbent; and a method for producing a lithographic printing plate.
(FR) Plaque originale d’impression lithographique positive présentant, sur un corps support, une couche d’enregistrement d’image contenant un composé polymère 1 renfermant un groupe de liaison représenté par la formule A-1 dans la chaîne principale, un composé polymère 2-1 renfermant un motif constitutif représenté par la formule S-1 et/ou un motif constitutif représenté par la formule S-2 ou un composé polymère 2-2 renfermant un motif constitutif représenté par la formule EV-1 et un motif constitutif représenté par la formule EV-2, et un absorbant de l’infrarouge ; et procédé de fabrication d’une plaque d’impression lithographique.
(JA) 支持体上に、式A-1で表される連結基を主鎖に有する高分子化合物1と、式S-1により表される構成単位及び式S-2により表される構成単位のうち少なくとも1種を含む高分子化合物2-1、又は、式EV-1により表される構成単位及び式EV-2により表される構成単位を含む高分子化合物2-2と、赤外線吸収剤と、を含有する画像記録層を有するポジ型平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)