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1. (WO2018147231) レーザ媒質ユニット、及び、レーザ装置
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国際公開番号: WO/2018/147231 国際出願番号: PCT/JP2018/003838
国際公開日: 16.08.2018 国際出願日: 05.02.2018
IPC:
H01S 3/042 (2006.01) ,H01S 3/06 (2006.01) ,H01S 3/0941 (2006.01) ,H01S 3/10 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
S
誘導放出を用いた装置
3
レーザ,すなわち誘導放出を用いた赤外線,可視光あるいは紫外線の発生,増幅,変調,復調あるいは周波数変換のための装置
02
構造的な細部
04
冷却装置
042
固体レーザのためのもの
H 電気
01
基本的電気素子
S
誘導放出を用いた装置
3
レーザ,すなわち誘導放出を用いた赤外線,可視光あるいは紫外線の発生,増幅,変調,復調あるいは周波数変換のための装置
05
光学的な共振器の構造または形状;活性媒質の調整;活性媒質の形状
06
活性媒質の構造または形状
H 電気
01
基本的電気素子
S
誘導放出を用いた装置
3
レーザ,すなわち誘導放出を用いた赤外線,可視光あるいは紫外線の発生,増幅,変調,復調あるいは周波数変換のための装置
09
励起方法またはその装置,例.ポンピング
091
光学的ポンピングを用いるもの
094
コヒーレント光によるもの
0941
半導体レーザーの,例.レーザーダイオードの
H 電気
01
基本的電気素子
S
誘導放出を用いた装置
3
レーザ,すなわち誘導放出を用いた赤外線,可視光あるいは紫外線の発生,増幅,変調,復調あるいは周波数変換のための装置
10
放出された放射線の強度,周波数,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲート,変調または復調
出願人:
浜松ホトニクス株式会社 HAMAMATSU PHOTONICS K.K. [JP/JP]; 静岡県浜松市東区市野町1126番地の1 1126-1, Ichino-cho, Higashi-ku, Hamamatsu-shi, Shizuoka 4358558, JP
発明者:
植田 憲一 UEDA Kenichi; JP
伊山 功一 IYAMA Koichi; JP
加藤 義則 KATO Yoshinori; JP
関根 尊史 SEKINE Takashi; JP
川嶋 利幸 KAWASHIMA Toshiyuki; JP
代理人:
長谷川 芳樹 HASEGAWA Yoshiki; JP
黒木 義樹 KUROKI Yoshiki; JP
柴山 健一 SHIBAYAMA Kenichi; JP
優先権情報:
2017-02136108.02.2017JP
発明の名称: (EN) LASER MEDIUM UNIT AND LASER DEVICE
(FR) UNITÉ DE MILIEU LASER ET DISPOSITIF LASER
(JA) レーザ媒質ユニット、及び、レーザ装置
要約:
(EN) This laser medium unit has: a plate-like laser gain medium having a first surface and a second surface on the reverse side of the first surface and generating emitted light by irradiating excitation light from the first surface; a reflection member installed on the second surface to reflect the excitation light and the emitted light; and a cooling member for cooling the laser gain medium. The laser gain medium has: an irradiation area that is irradiated with the excitation light; and an outer area disposed outside the irradiation area when viewed from a thickness direction crossing the first surface and the second surface. The cooling member is thermally connected to the second surface through the reflection member, thereby forming on the second surface, a cooling area of the laser gain medium. An outer edge of the cooling area is disposed within the irradiation area when viewed from the thickness direction.
(FR) Cette unité de milieu laser comprend : un milieu de gain laser de type plaque ayant une première surface et une seconde surface sur le côté inverse de la première surface et générant une lumière émise par irradiation de lumière d'excitation à partir de la première surface ; un élément de réflexion installé sur la seconde surface pour réfléchir la lumière d'excitation et la lumière émise ; et un élément de refroidissement pour refroidir le milieu de gain laser. Le milieu de gain laser comprend : une zone d'irradiation qui est irradiée avec la lumière d'excitation ; et une zone externe disposée à l'extérieur de la zone d'irradiation lorsqu'elle est vue depuis une direction de l'épaisseur croisant la première surface et la seconde surface. L'élément de refroidissement est thermiquement connecté à la seconde surface par l'intermédiaire de l'élément de réflexion, formant ainsi sur la seconde surface une zone de refroidissement du milieu de gain laser. Un bord extérieur de la zone de refroidissement est disposé à l'intérieur de la zone d'irradiation lorsqu'il est vu depuis la direction de l'épaisseur.
(JA) レーザ媒質ユニットは、第1面と前記第1面の反対側の第2面とを有し、前記第1面からの励起光の照射により放出光を発生する板状のレーザ利得媒質と、前記第2面上に設けられ、前記励起光及び前記放出光を反射する反射部材と、前記レーザ利得媒質を冷却するための冷却部材と、を備える。前記レーザ利得媒質は、前記励起光が照射される照射領域と、前記第1面及び前記第2面に交差する厚さ方向からみて前記照射領域の外側に位置する外側領域と、を有する。前記冷却部材は、前記反射部材を介して前記第2面に熱的に接続されることにより、前記第2面上に前記レーザ利得媒質の冷却エリアを形成している。前記冷却エリアの外縁は、前記厚さ方向からみて前記照射領域内に位置する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)