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1. (WO2018147122) 成膜装置および成膜物の製造方法
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国際公開番号: WO/2018/147122 国際出願番号: PCT/JP2018/002837
国際公開日: 16.08.2018 国際出願日: 30.01.2018
IPC:
C23C 14/54 (2006.01) ,C23C 14/06 (2006.01) ,C23C 14/24 (2006.01) ,C23C 14/34 (2006.01) ,C23C 14/50 (2006.01) ,F16J 9/26 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
54
被覆工程の制御または調整(制御または調整一般G05)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
06
被覆材料に特徴のあるもの
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
24
真空蒸着
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
34
スパッタリング
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
50
基板保持具
F 機械工学;照明;加熱;武器;爆破
16
機械要素または単位;機械または装置の効果的機能を生じ維持するための一般的手段
J
ピストン;シリンダ;圧力容器一般;密封装置
9
ピストンリング,そのための座;類似の構造のリング密封装置一般
26
特殊な材料の使用によって特徴づけられたもの
出願人:
株式会社神戸製鋼所 KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.) [JP/JP]; 兵庫県神戸市中央区脇浜海岸通二丁目2番4号 2-4, Wakinohama-Kaigandori 2-chome, Chuo-ku, Kobe-shi, Hyogo 6518585, JP
発明者:
藤井 博文 FUJII, Hirofumi; --
代理人:
小谷 悦司 KOTANI, Etsuji; JP
小谷 昌崇 KOTANI, Masataka; JP
村松 敏郎 MURAMATSU, Toshiro; JP
優先権情報:
2017-02196809.02.2017JP
発明の名称: (EN) COATING DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING COATED ARTICLE
(FR) DISPOSITIF DE REVÊTEMENT ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN ARTICLE REVÊTU
(JA) 成膜装置および成膜物の製造方法
要約:
(EN) Provided is a coating device that can control film thickness distribution in the circumferential direction of a workpiece. The coating device is provided with: a workpiece rotating device (5) for rotating and revolving a plurality of workpieces (100) held thereby; targets (3) having ejection surfaces (3a) from which particles serving as material for coating the outer peripheral surfaces of the workpieces (100) are ejected; power supplies (4) for imparting to the targets (3) an arc current by which the particles are ejected from the targets (3); and a control unit (23) for controlling each power supply (4) such that the output for the arc current is higher than a reference output in a specific period which is at least part of a period wherein a specific part (102) of a rotating workpiece (100) is oriented to an ejection surface (3a).
(FR) La présente invention concerne un dispositif de revêtement qui peut contrôler la distribution d'épaisseur de pellicule dans la direction circonférentielle d'une pièce à travailler. Le dispositif de revêtement comprend : un dispositif de rotation de pièce à travailler (5) pour faire tourner autour d’un axe et sur elles-mêmes une pluralité de pièces à travailler (100) maintenues par celui-ci ; des cibles (3) ayant des surfaces d'éjection (3a) à partir desquelles des particules servant de matériau pour revêtir les surfaces périphériques externes des pièces à travailler (100) sont éjectées ; des alimentations électriques (4) pour communiquer aux cibles (3) un courant d'arc par lequel les particules sont éjectées des cibles (3) ; et une unité de commande (23) pour commander chaque alimentation électrique (4) de sorte que la sortie du courant d'arc soit supérieure à une sortie de référence dans une période spécifique qui est au moins une partie d'une période dans laquelle une partie spécifique (102) d'une pièce à travailler rotative (100) est orientée vers une surface d'éjection (3a).
(JA) ワークの周方向の膜厚分布を制御することが可能な成膜装置が提供される。成膜装置は、複数のワーク(100)を保持して自公転させるワーク回転装置(5)と、ワーク(100)の外周面を成膜するための材料となる粒子が飛び出す出射面(3a)を有するターゲット(3)と、ターゲット(3)から粒子が飛び出すためのアーク電流をターゲット(3)に与える電源(4)と、自転するワーク(100)の特定部分(102)が出射面(3a)を向く期間の少なくとも一部である特定期間においてアーク電流を基準出力よりも高い出力にするように電源(4)を制御する制御部(23)と、を備える。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)