Mobile |
Deutsch |
English |
Español |
Français |
한국어 |
Português |
Русский |
中文 |
العربية |
PATENTSCOPE
国際・国内特許データベース検索
オプション
検索
結果表示
操作画面
官庁
翻訳
検索言語
【全言語】
アラビア語
イタリア語
インドネシア語
エストニア語
スウェーデン語
スペイン語
タイ語
デンマーク語
ドイツ語
フランス語
ブルガリア語
ヘブライ語
ベトナム語
ポルトガル語
ポーランド語
ラオス人
ルーマニア語
ロシア語
中国語
日本語
英語
韓国語
語幹処理適用
並び替え:
関連性
公開日 (新しい順)
公開日 (古い順)
出願日 (新しい順)
出願日 (古い順)
表示件数
10
50
100
200
表示言語
検索言語
英語
スペイン語
韓国語
ベトナム語
ヘブライ語
ポルトガル語
フランス語
ドイツ語
日本語
ロシア語
中国語
イタリア語
ポーランド語
デンマーク語
スウェーデン語
アラビア語
エストニア語
インドネシア語
タイ語
ブルガリア語
ラオス人
ルーマニア語
表示フィールド
出願番号
公開日
要約
出願人氏名 (名称)
国際特許分類
図
発明者氏名 (名称)
表・グラフ
表
グラフ
表示グループ (分析)
*
なし
Offices of NPEs
IPC
出願人
発明者
出願日
公開日
国名
グループ毎表示件数 (分析)
0
1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
21
22
23
24
25
0
1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
21
22
23
24
25
Download Fields
NPEs
デフォルト検索方法
簡易検索
詳細検索
構造化検索
PCT 出願 (公開週別)
多言語検索 (CLIR)
翻訳
簡易検索
詳細検索
構造化検索
PCT 出願 (公開週別)
多言語検索 (CLIR)
翻訳
デフォルト検索フィールド
Front Page
Any Field
Full Text
ID/Numbers
IPC
Names
Dates
Front Page
Any Field
Full Text
ID/Numbers
IPC
Names
Dates
画面表示言語
English
Deutsch
Français
Español
日本語
中文
한국어
Português
Русский
English
Deutsch
Français
Español
日本語
中文
한국어
Português
Русский
複数画面モード
ツールチップ ヘルプ 有効化
IPC ツールチップ ヘルプ
Instant Help
Expanded Query
官庁:
全て
全て
PCT
アフリカ
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO)
エジプト
ケニア
モロッコ
チュニジア
南アフリカ
南北アメリカ
アメリカ合衆国
カナダ
LATIPAT
アルゼンチン
ブラジル
チリ
コロンビア
コスタリカ
キューバ
ドミニカ共和国
エクアドル
エルサルバドル
グアテマラ
ホンジュラス
メキシコ
ニカラグア
パナマ
ペルー
ウルグアイ
アジア ヨーロッパ
オーストラリア
バーレーン
中華人民共和国
デンマーク
エストニア
ユーラシア特許庁(EAPO)
欧州特許庁(EPO)
フランス
ドイツ
ドイツ (DDR data)
イスラエル
日本
ヨルダン
ポルトガル
ロシア
ロシア (USSR data)
サウジアラビア
アラブ首長国連邦
スペイン
韓国
インド
イギリス
ジョージア
ブルガリア
イタリア
ルーマニア
ラオス人民民主共和国
Asean
シンガポール
ベトナム
インドネシア
カンボジア
マレーシア
ブルネイ・ダルサラーム
フィリピン
タイ
WIPO translate (Wipo internal translation tool)
検索
簡易検索
詳細検索
構造化検索
多言語検索 (CLIR)
化学化合物 (ログインが必要です)
閲覧
PCT 出願 (公開週別)
ガゼットアーカイブ
国内フェーズエントリーダウンロード
完全ダウンロード
インクリメンタルダウンロード(過去7日間)
配列表 (公開週別)
IPC Green Inventory
各国特許登録簿
翻訳
WIPO 翻訳
WIPO Pearl
最新情報
PATENTSCOPE 最新情報
ログイン
ui-button
ログイン
PATENTSCOPE アカウント登録
オプション
オプション
ヘルプ
ui-button
検索方法
PATENTSCOPE ユーザ ガイド
多言語検索 (CLIR) ユーザ ガイド
User Guide: ChemSearch
検索構文
フィールド定義
国コード
データ収録範囲
PCT 出願
PCT 国内段階移行
国内特許コレクション
Global Dossier 公開データ
FAQ
フィードバック & お問い合わせ
INID コード
公報種別
チュートリアル
このサービスについて
概要
利用規約
免責事項
ホーム
IP サービス
PATENTSCOPE
自動翻訳
Wipo Translate
アラビア語
ドイツ語
英語
スペイン語
フランス語
日本語
韓国語
ポルトガル語
ロシア語
中国語
Google Translate
Bing/Microsoft Translate
Baidu Translate
アラビア語
英語
フランス語
ドイツ語
スペイン語
ポルトガル語
ロシア語
韓国語
日本語
中国語
...
Italian
Thai
Cantonese
Classical Chinese
このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせください
フィードバック & お問い合わせ
1. (WO2018143220) 光硬化性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物、およびプリント配線板
PCT 書誌情報
フルテキスト
国内段階
更新情報
書類
国際事務局に記録されている最新の書誌情報
第三者情報を提供
パーマリンク
パーマリンク
ブックマーク
国際公開番号:
WO/2018/143220
国際出願番号:
PCT/JP2018/003042
国際公開日:
09.08.2018
国際出願日:
30.01.2018
IPC:
G03F 7/004
(2006.01) ,
G03F 7/031
(2006.01) ,
H05K 3/28
(2006.01)
G
物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G
物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
028
増感物質をもつもの,例.光重合開始剤
031
グループ7/029に包含されない有機化合物
H
電気
05
他に分類されない電気技術
K
印刷回路;電気装置の箱体または構造的細部,電気部品の組立体の製造
3
印刷回路を製造するための装置または方法
22
印刷回路の2次的処理
28
非金属質の保護被覆を施すこと
出願人:
太陽インキ製造株式会社 TAIYO INK MFG. CO., LTD.
[JP/JP]; 埼玉県比企郡嵐山町大字平澤900番地 900, Oaza Hirasawa, Ranzan-machi, Hiki-gun, Saitama 3550215, JP
発明者:
岡田 和也 OKADA Kazuya
; JP
工藤 知哉 KUDO Tomoya
; JP
植田 千穂 UETA Chiho
; JP
伊藤 信人 ITO Nobuhito
; JP
代理人:
本多 一郎 HONDA Ichiro
; JP
優先権情報:
2017-016500
01.02.2017
JP
発明の名称:
(EN)
PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION, DRY FILM, CURED PRODUCT, AND PRINTED WIRING BOARD
(FR)
COMPOSITION DE RÉSINE PHOTODURCISSABLE, FILM SEC, PRODUIT DURCI ET CARTE IMPRIMÉE
(JA)
光硬化性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物、およびプリント配線板
要約:
(EN)
Provided is an alkali developable photocurable resin composition or the like that has excellent sensitivity and resolution and that is capable of forming a cured product having excellent appearance and surface smoothness. The alkali developable photocurable resin composition or the like includes: (A) an alkali-soluble resin; (B) a photopolymerization initiator; (C) a blue colorant; and (D) an inorganic filler, and is characterized in that the average particle diameter of the blue colorant (C) is 300 nm or less, and the average particle diameter of the inorganic filler (D) is 1.0 µm or less.
(FR)
L'invention concerne une composition de résine photodurcissable développable en milieu alcalin ou similaire qui présente une excellente sensibilité et une excellente résolution et qui est susceptible de former un produit durci ayant un excellent aspect et un excellent lissé de surface. La composition de résine photodurcissable développable en milieu alcalin ou similaire comprend : (A) une résine soluble dans les alcalis ; (B) un initiateur de photopolymérisation ; (C) un colorant bleu ; et (D) une charge inorganique, et est caractérisée en ce que le diamètre moyen des particules du colorant bleu (C) est de 300 nm ou moins, et le diamètre moyen des particules de la charge inorganique (D) est de 1,0 µm ou moins.
(JA)
外観および表面平滑性に優れた硬化物を形成することができ、かつ、感度および解像性に優れたアルカリ現像可能な光硬化性樹脂組成物等を提供する。(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)光重合開始剤、(C)青色着色剤、および、(D)無機フィラーを含有するアルカリ現像可能な光硬化性樹脂組成物であって、前記(C)青色着色剤の平均粒径が300nm以下であり、前記(D)無機フィラーの平均粒径が1.0μm以下であることを特徴とする光硬化性樹脂組成物等である。
指定国:
AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語:
日本語 (
JA
)
国際出願言語:
日本語 (
JA
)