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1. (WO2018143173) 化合物、パターン形成用基板、光分解性カップリング剤、パターン形成方法及びトランジスタの製造方法

Pub. No.:    WO/2018/143173    International Application No.:    PCT/JP2018/002899
Publication Date: Fri Aug 10 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Wed Jan 31 00:59:59 CET 2018
IPC: C07F 7/18
H01L 21/28
H01L 21/288
H01L 21/336
H01L 29/417
H01L 29/423
H01L 29/49
H01L 29/786
Applicants: NIKON CORPORATION
株式会社ニコン
KANAGAWA UNIVERSITY
学校法人神奈川大学
Inventors: KAWAKAMI Yusuke
川上 雄介
YAMAGUCHI Kazuo
山口 和夫
ITOU Michiko
伊藤 倫子
Title: 化合物、パターン形成用基板、光分解性カップリング剤、パターン形成方法及びトランジスタの製造方法
Abstract:
一般式(1)で表される化合物。