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1. (WO2018143164) プラズマ発生装置、プラズマスパッタリング装置及びプラズマスパッタリング方法

Pub. No.:    WO/2018/143164    International Application No.:    PCT/JP2018/002876
Publication Date: Fri Aug 10 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Wed Jan 31 00:59:59 CET 2018
IPC: C23C 14/35
C23C 14/34
H05H 1/46
Applicants: TOHOKU UNIVERSITY
国立大学法人東北大学
Inventors: TAKAHASHI Kazunori
高橋 和貴
FUKUSHIMA Jun
福島 潤
ANDO Akira
安藤 晃
SASAKI Yasumasa
佐々木 保正
Title: プラズマ発生装置、プラズマスパッタリング装置及びプラズマスパッタリング方法
Abstract:
本発明は、内径が拡大し端部または側部にガス導入口を備えた絶縁管、静磁場を印加可能な第1の電磁石または永久磁石群及び高周波アンテナを有した1個または複数個のプラズマ発生装置と、前記プラズマ発生装置の下流域に配設された、湾曲した磁力線構造を形成可能な第2の電磁石と、永久磁石を埋没しかつ冷却機構を備えた直流または高周波電圧印加可能なターゲット機構と、ターゲット機構に対向する基板ステージと、基板ステージ周囲の第2の永久磁石群と、ターゲット材料とターゲット機構の間の断熱機構とを備えていることを特徴とするプラズマスパッタリング装置に関する。本発明のプラズマスパッタリング装置は、基板ダメージがなく、ターゲット材の昇温機構を兼ね備え、大口径基板への均一成膜が可能であり、磁性体ターゲットにおいても薄膜形成が可能な高速スパッタリングが可能である。