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1. (WO2018142871) 精度管理方法、精度管理システム、管理装置、分析装置および精度管理異常判定方法
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国際公開番号: WO/2018/142871 国際出願番号: PCT/JP2018/000485
国際公開日: 09.08.2018 国際出願日: 11.01.2018
IPC:
G01N 35/00 (2006.01) ,G01N 15/14 (2006.01)
G 物理学
01
測定;試験
N
材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
35
グループ1/00から33/00のいずれか1つに分類される方法または材料に限定されない自動分析;そのための材料の取扱い
G 物理学
01
測定;試験
N
材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
15
粒子の特徴の調査;多孔性材料の透過率,気孔量または表面積の調査
10
個別の粒子の調査
14
電気光学的調査
出願人:
シスメックス株式会社 SYSMEX CORPORATION [JP/JP]; 兵庫県神戸市中央区脇浜海岸通1丁目5番1号 5-1, Wakinohama-Kaigandori 1-chome, Chuo-ku, Kobe-shi Hyogo 6510073, JP
発明者:
藤本 敬二 FUJIMOTO Keiji; JP
松岡 和彦 MATSUOKA Kazuhiko; JP
蓮井 康嗣 HASUI Yasushi; JP
代理人:
特許業務法人 小笠原特許事務所 OGASAWARA PATENT OFFICE; 大阪府吹田市江坂町1丁目23番101号 大同生命江坂ビル13階 Daido-Seimei Esaka Bldg., 13th Floor, 1-23-101, Esakacho, Suita-shi Osaka 5640063, JP
優先権情報:
2017-01638331.01.2017JP
発明の名称: (EN) ACCURACY MANAGEMENT METHOD, ACCURACY MANAGEMENT SYSTEM, MANAGEMENT DEVICE, ANALYSIS DEVICE, AND METHOD FOR DETERMINING ABNORMALITY IN ACCURACY MANAGEMENT
(FR) PROCÉDÉ DE GESTION DE PRÉCISION, SYSTÈME DE GESTION DE PRÉCISION, DISPOSITIF D’ANALYSE, ET PROCÉDÉ DE DÉTERMINATION D’ANOMALIE DANS LA GESTION DE PRÉCISION
(JA) 精度管理方法、精度管理システム、管理装置、分析装置および精度管理異常判定方法
要約:
(EN) Provided are an accuracy management method, an accuracy management system, a management device, an analysis device, and a method for determining an abnormality in accuracy management, whereby the quality of accuracy management can be increased by adequately utilizing measurement results for both an accuracy management material and a sample. An accuracy management method used by a management device 30 connected via a network 13 to analysis devices 20 installed in each of a plurality of facilities 12, wherein first accuracy management information obtained by measurement of an artificially generated accuracy management material by the analysis device 20 of each facility 12 and second accuracy management information obtained by measurement of a plurality of samples are acquired via the network 13 from the analysis device 20 of each facility 12, and information relating to accuracy management of the analysis device 20 of at least one facility 12 is outputted on the basis of the acquired first accuracy management information and the second accuracy management information.
(FR) L’invention concerne un procédé de gestion de précision, un système de gestion de précision, un dispositif de gestion, un dispositif d’analyse, et un procédé de détermination d’une anomalie dans la gestion de précision, la qualité de gestion de précision pouvant être accrue en utilisant adéquatement des résultats de mesure aussi bien pour un matériau de gestion de précision que pour un échantillon. Elle concerne un procédé de gestion de précision utilisé par un dispositif de gestion (30) connecté par un réseau (13) à des dispositifs d’analyse (20) installés dans chaque usine d’une pluralité d’usines (12), de premières informations de gestion de précision obtenues par mesure d’un matériau de gestion de précision généré artificiellement par le dispositif d’analyse (20) de chaque usine (12) et de deuxièmes informations de gestion de précision obtenues par mesure d’une pluralité d’échantillons étant acquises par le biais du réseau (13) depuis le dispositif d’analyse (20) de chaque usine (12), et des informations portant sur la gestion de précision du dispositif d’analyse (20) d’au moins une usine (12) étant transmises sur la base des premières informations acquises de gestion de précision et des deuxièmes informations acquises de gestion de précision.
(JA) 精度管理物質と検体の両方の測定結果を十分に活用して精度管理の質を高めることができる精度管理方法、精度管理システム、管理装置、分析装置および精度管理異常判定方法を提供する。ネットワーク13を介して複数の施設12のそれぞれに設置された分析装置20と接続された管理装置30で用いられる精度管理方法において、各施設12の分析装置20が人工的に生成された精度管理物質を測定して得た第1精度管理情報と、複数の検体を測定して得た第2精度管理情報とを、ネットワーク13を介して、各施設12の分析装置20からそれぞれ取得し、取得した第1精度管理情報および第2精度管理情報に基づいて、少なくとも一の施設12の分析装置20の精度管理に関する情報を出力する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)