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1. (WO2018142516) 研磨液、研磨液セット及び研磨方法
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国際公開番号: WO/2018/142516 国際出願番号: PCT/JP2017/003645
国際公開日: 09.08.2018 国際出願日: 01.02.2017
IPC:
C09K 3/14 (2006.01) ,B24B 37/00 (2012.01) ,H01L 21/304 (2006.01)
C 化学;冶金
09
染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
K
他に分類されない応用される物質;他に分類されない物質の応用
3
物質であって,他に分類されないもの
14
抗スリップ物質;研摩物質
B 処理操作;運輸
24
研削;研磨
B
研削または研磨するための機械,装置,または方法;研削面のドレッシングまたは正常化;研削剤,研磨剤,またはラッピング剤の供給
37
ラッピング機械または装置;附属装置
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30
21/20~21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
302
表面の物理的性質または形状を変換するため,例.エッチング,ポリシング,切断
304
機械的処理,例.研摩,ポリシング,切断
出願人:
日立化成株式会社 HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目9番2号 9-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1006606, JP
発明者:
阿久津 利明 AKUTSU Toshiaki; JP
星 陽介 HOSHI Yousuke; JP
青木 雅子 AOKI Masako; JP
代理人:
長谷川 芳樹 HASEGAWA Yoshiki; JP
清水 義憲 SHIMIZU Yoshinori; JP
平野 裕之 HIRANO Hiroyuki; JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) POLISHING FLUID, POLISHING FLUID SET, AND POLISHING METHOD
(FR) LIQUIDE DE POLISSAGE, ENSEMBLE DE LIQUIDE DE POLISSAGE, ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE
(JA) 研磨液、研磨液セット及び研磨方法
要約:
(EN) Provided is a polishing fluid that contains: abrasive grains containing the hydroxide of a tetravalent metal element; a polyalkylene glycol; a polymer compound; a cationic polymer; and a liquid medium. The polymer compound has a first molecular chain to which a functional group is directly bonded and a second molecular chain that branches from the first molecular chain. The functional group includes at least one selected from the group consisting of the carboxyl group and carboxylate salt groups.
(FR) L’invention concerne un liquide de polissage qui comprend : des grains abrasifs contenant un hydroxyde d’un élément métallique tétravalent, un polyalkylèneglycol, un composé macromoléculaire, un polymère cationique, et un milieu liquide. Ledit composé macromoléculaire possède une première chaîne moléculaire à laquelle est directement lié un groupe fonctionnel, et une seconde chaîne moléculaire ramifiée à partir de la première chaîne moléculaire. Ledit groupe fonctionnel contient au moins un élément choisi dans un groupe constitué d’un groupe carboxyle et d’un groupe carboxylate.
(JA) 4価金属元素の水酸化物を含む砥粒と、ポリアルキレングリコールと、高分子化合物と、陽イオン性ポリマと、液状媒体と、を含有し、前記高分子化合物が、官能基が直接結合した第1の分子鎖と、当該第1の分子鎖から分岐した第2の分子鎖と、を有し、前記官能基が、カルボキシル基及びカルボン酸塩基からなる群より選択される少なくとも一種を含む、研磨液。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)